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恭喜西北工业大学上海闵行协同创新中心;西北工业大学吉博文获国家专利权

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龙图腾网恭喜西北工业大学上海闵行协同创新中心;西北工业大学申请的专利基于微褶皱与微孔复合界面的软性神经电极及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115736930B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-04发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211436894.X,技术领域涉及:A61B5/263;该发明授权基于微褶皱与微孔复合界面的软性神经电极及其制备方法是由吉博文;孙凡淇;尤小丽;李想;叶元茗;苑曦宸;周宇昊;常洪龙设计研发完成,并于2022-11-16向国家知识产权局提交的专利申请。

基于微褶皱与微孔复合界面的软性神经电极及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种基于微褶皱与微孔复合界面的软性神经电极及其制备方法,由软性基底层、柔性衬底层、导电金属层、柔性封装层和改性镀层组成,柔性封装层开孔所暴露出来的微电极点,是由微褶皱结构和微孔结构所构成的复合界面。其制备方法包括:1、软性硅酮材料混合硅油旋涂并固化,随即浸泡有机溶剂完成硅油萃取,形成软性基底层;2、表面沉积一层聚合物薄膜作为柔性衬底层,自动形成微褶皱结构;3、利用激光切割工艺在柔性衬底层表面微孔结构;4、利用沉积、光刻、刻蚀工艺依次形成导电金属层和柔性封装层;5、利用电化学工作站完成微电极点改性镀层的沉积。本发明可以有效提升改性镀层材料在微电极点表面的长期稳定性。

本发明授权基于微褶皱与微孔复合界面的软性神经电极及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种基于微褶皱与微孔复合界面的软性神经电极的制备方法,所述软性神经电极包括软性基底层、柔性衬底层、导电金属层、柔性封装层和改性镀层;所述软性基底层位于电极最下方,所述柔性衬底层的下表面与软性基底层接触,柔性衬底层的上下表面均呈有规律形貌的微褶皱结构;所述柔性衬底层上表面设有多个微电极点区域,在微电极点区域内开有多个均匀分布的盲孔构成微孔结构;所述导电金属层覆盖在柔性衬底层上,包括设置在微电极点区域的微电极点和与微电极点连接的可延展导线;所述改性镀层电镀在微电极点上表面,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:在硅片表面沉积一层铝作为牺牲层;步骤2:将聚二甲基硅氧烷PDMS混合设定比例的硅油在硅片上旋涂并固化,随即浸泡有机溶剂完成硅油萃取,作为软性基底层;步3:在软性基底层表面通过化学气相沉积CVD方法沉积第一层聚对二甲苯Parylene-C作为柔性衬底层,柔性衬底层的上下表面由于应力释放形成具有规律形貌的微褶皱结构;步骤4:在柔性衬底层上表面设定多个微电极点区域,在微电极点区域利用激光切割工艺形成多个均匀分布的盲孔构成微孔结构;步骤5:在柔性衬底层上表面通过溅射或热蒸发工艺,依次沉积一层铬和一层金,随后旋涂正性光刻胶,进行前烘和光刻,再通过干法刻蚀得到图形化的导电金属层;导电金属层包括设置在微电极点区域的微电极点和与微电极点连接的可延展导线;步骤6:通过化学气相沉积CVD方法沉积第二层聚对二甲苯Parylene-C,作为柔性封装层,随后旋涂正性光刻胶,进行前烘和光刻,放入氧等离子体刻蚀机中同时刻蚀微电极点区域内的第一层和第二层Parylene-C,暴露出微电极点;步骤7:将步骤6所得整体浸泡在稀盐酸中使软性神经电极从硅片上释放;步骤8:利用电化学工作站在微电极点表面电镀导电聚合物PEDOT:PSS,作为改性镀层。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人西北工业大学上海闵行协同创新中心;西北工业大学,其通讯地址为:201100 上海市闵行区申南路515号a座616室;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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