恭喜北京华丞电子有限公司郑文宁获国家专利权
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龙图腾网恭喜北京华丞电子有限公司申请的专利压力控制方法、装置及半导体工艺设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115145319B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210602647.6，技术领域涉及：G05D16/20；该发明授权压力控制方法、装置及半导体工艺设备是由郑文宁;赵迪;杜传正设计研发完成，并于2022-05-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本压力控制方法、装置及半导体工艺设备在说明书摘要公布了：本发明公开了一种压力控制方法、装置及半导体工艺设备，方法包括：实时获取工艺腔室内的实际压力值；计算工艺腔室内的初始实际压力值与目标压力值的最大差值，基于最大差值确定对应的压力调节阀的执行器的初始频率；计算实际压力值的压力变化量，将压力变化量与预先设定的预设值进行比较，当压力变化量小于或者等于预设值时，控制执行器维持当前的频率，当压力变化量大于预设值时，执行器的频率按照预设函数关系下降，直到实际压力值到达目标压力值。解决在腔室压力快速控制过程中存在的压力过冲的问题，减小压力波动对工艺的影响。
本发明授权压力控制方法、装置及半导体工艺设备在权利要求书中公布了：1.一种压力控制方法，应用于半导体工艺设备的工艺腔室,所述工艺腔室的气体管路上设置有压力调节阀,用于调节所述工艺腔室内的压力,其特征在于，所述方法包括：实时获取所述工艺腔室内的实际压力值；计算所述工艺腔室内的初始实际压力值与目标压力值的最大差值，基于所述最大差值确定对应的所述压力调节阀的执行器的初始频率；计算所述实际压力值的压力变化量，将所述压力变化量与预先设定的预设值进行比较，当所述压力变化量小于或者等于所述预设值时，控制所述执行器维持当前的频率，当所述压力变化量大于所述预设值时，所述执行器的频率按照预设函数关系下降，直到所述实际压力值到达所述目标压力值。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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