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龙图腾网恭喜重庆市人民医院申请的专利经鼻神经颅底修复装置、颅底修复膜及其装置的使用方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114176664B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111446849.8，技术领域涉及：A61B17/00；该发明授权经鼻神经颅底修复装置、颅底修复膜及其装置的使用方法是由吴南;汪攀;王俊伟;邹德伟;潘金玉设计研发完成，并于2021-12-01向国家知识产权局提交的专利申请。

本经鼻神经颅底修复装置、颅底修复膜及其装置的使用方法在说明书摘要公布了：本发明涉及经鼻神经颅底修复装置、颅底修复膜及其装置的使用方法，包括用于对liliequist膜漏口进行修复的第一修复膜组件，以及用于对硬脑膜漏口进行修复的第二修复膜组件。该经鼻神经颅底修复装置、颅底修复膜及其装置的使用方法,通过可融合生物膜、不可融合生物膜、支撑件、止血纱及固定气囊的配合使用，使得本申请技术方案结构紧凑、临床实用性强、效果显著，采用多层人工生物膜，辅助人工支撑和固定材料，成功实现了颅底修复，防止经鼻神经内镜术后并发症脑脊液漏的出现，减少颅内感染的风险，降低危及患者生命的可能性，提高患者生存质量并改善预后；而且，该方法修复过程中均采用人工材料。

本发明授权经鼻神经颅底修复装置、颅底修复膜及其装置的使用方法在权利要求书中公布了：1.经鼻神经颅底修复装置，其特征在于：包括用于对liliequist膜漏口进行修复的第一修复膜组件（1），以及用于对硬脑膜漏口进行修复的第二修复膜组件（5）；第一修复膜组件（1）和第二修复膜组件（5）均包括可融合生物膜（2）以及与可融合生物膜（2）互相配合使用的不可融合生物膜（3）；第一修复膜组件（1）还包括支撑件（4）；第二修复膜组件（5）还包括止血纱（6）；第一修复膜组件的可融合生物膜，置于三脑室底部，其内侧贴近并覆盖第三脑室底部liliequist膜漏口，用于与三脑室底部生长融合；在第一修复膜组件的可融合生物膜安放完毕后，将支撑件置于瘤腔，其内侧贴近并支撑第一修复膜组件的可融合生物膜，进一步使该可融合生物膜贴近并覆盖第三脑室底部liliequist膜漏口；支撑件填充量为瘤腔空间的80%-85%；当支撑件与可融合生物膜安放完毕后，将第一修复组件的不可融合生物膜，置于硬脑膜下，其内侧紧贴支撑件，外侧紧贴并覆盖硬脑膜漏口；当第一修复膜组件安放完毕后，将第二修复组件拿出开始使用，先将第二修复组件的可融合生物膜，置于硬脑膜外，其内侧紧贴并覆盖硬脑膜漏口；再将第二修复膜组件的不可融合生物膜，置于硬脑膜外，其内侧紧贴并覆盖该可融合生物膜；所述支撑件（4）为明胶海绵。

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