恭喜株式会社理光高野洋平获国家专利权
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龙图腾网恭喜株式会社理光申请的专利光源装置、图像投射装置以及光源光学系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114563907B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111329870.X，技术领域涉及：G03B21/20；该发明授权光源装置、图像投射装置以及光源光学系统是由高野洋平;藤田和弘;平川真;今井重明设计研发完成，并于2021-11-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本光源装置、图像投射装置以及光源光学系统在说明书摘要公布了：本发明涉及光源装置、图像投射装置及光源光学系统，其目的在于实现图像投射装置的小型化和光利用的高效率化。本发明的光源装置的特征为，具备将从光源出射的第一色光的至少一部分变换为与所述第一色光不同的第二色光后射出的多个光源部，以及将从多个光源部分别射出的第二色光的发光区域的多个共轭像形成为在使第二色光均化后射出的光均匀化元件的入射面上彼此邻接并且部分重叠的合成像的合成部，所述合成像的形成条件为，当设光均匀化元件的入射面上形成的多个共轭像中光强度为峰值强度的1e2以上的部分的面积，即合成像的面积为SC，光均匀化元件的入射面的面积为SI时，满足条件式1.3＞SCSI＞0.7。
本发明授权光源装置、图像投射装置以及光源光学系统在权利要求书中公布了：1.一种光源装置，其特征在于，具备：多个光源部，具备能够被激光激发的波长变换元件，将从光源出射的第一色光的至少一部分变换为与所述第一色光不同的第二色光后射出；将从所述多个光源部分别射出的所述第二色光均化后射出的光均化元件，以及合成部，用于使得分别从所述多个光源部射出的所述第二色光入射所述光均化元件的入射面，在所述光均化元件的入射面上，将所述多个光源部的所述第二色光在多个发光区域的多个共轭像生成为彼此邻接并且一部分重叠的合成像，所述合成像的形成条件为，当设所述光均化元件的入射面上形成的所述多个共轭像中光强度为峰值强度的1e2以上的部分的面积，即所述合成像的面积为SC，所述光均化元件的入射面的面积为SI时，满足以下的条件式，1.3＞SCSI＞0.7。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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