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恭喜京东方科技集团股份有限公司张月获国家专利权

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龙图腾网恭喜京东方科技集团股份有限公司申请的专利显示基板及其制备方法、显示装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115485850B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-04发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202180000636.4,技术领域涉及:H10K59/122;该发明授权显示基板及其制备方法、显示装置是由张月;崔颖;孙力设计研发完成,并于2021-03-30向国家知识产权局提交的专利申请。

显示基板及其制备方法、显示装置在说明书摘要公布了:一种显示基板及其制备方法、显示装置,显示基板包括基底、设置在基底上的驱动电路层和设置在驱动电路层远离基底一侧的发光结构层,驱动电路层包括晶体管,发光结构层包括第一电极、像素定义层、有机发光层和第二电极,第一电极与晶体管的漏电极连接,有机发光层位于第一电极和第二电极之间;像素定义层包括多个第一挡墙和多个第二挡墙,第一挡墙的高度小于第二挡墙的高度,第一挡墙和第二挡墙交叉限定出多个像素开口区域,像素开口区域包括第一像素开口区域和第二像素开口区域,第一像素开口区域的面积大于第二像素开口区域的面积,两个相邻的第一像素开口区域和第二像素开口区域之间通过第一挡墙隔开。

本发明授权显示基板及其制备方法、显示装置在权利要求书中公布了:1.一种显示基板,包括基底、设置在所述基底上的驱动电路层和设置在所述驱动电路层远离基底一侧的发光结构层,所述驱动电路层包括晶体管,所述发光结构层包括第一电极、像素定义层、有机发光层和第二电极,所述第一电极与所述晶体管的漏电极连接,所述有机发光层位于所述第一电极和第二电极之间;所述像素定义层包括多个第一挡墙和多个第二挡墙,所述第一挡墙的高度小于所述第二挡墙的高度,所述第一挡墙和第二挡墙交叉限定出多个像素开口区域,所述像素开口区域包括第一像素开口区域和第二像素开口区域,所述第一像素开口区域的面积大于所述第二像素开口区域的面积,两个相邻的第一像素开口区域和第二像素开口区域之间通过所述第一挡墙隔开;所述第二挡墙沿第二方向延伸,多个所述第二挡墙沿第一方向依次排布,相邻的两个第二挡墙之间具有多个沿第二方向依次排布的所述第一挡墙,所述第一方向和第二方向相交;所述第二挡墙包括间隔排布的第一子挡墙和第二子挡墙,所述第一子挡墙具有交替排布的多个第一弯折部和多个第二延伸部,所述第一弯折部向所述第一方向延伸,所述第二延伸部向所述第二方向延伸。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人京东方科技集团股份有限公司,其通讯地址为:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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