恭喜奥比中光科技集团股份有限公司兰富洋获国家专利权
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龙图腾网恭喜奥比中光科技集团股份有限公司申请的专利一种干涉条纹的校正方法及屏下系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115131216B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110316128.9，技术领域涉及：G06T5/70；该发明授权一种干涉条纹的校正方法及屏下系统是由兰富洋;王兆民;杨鹏;黄源浩;肖振中设计研发完成，并于2021-03-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种干涉条纹的校正方法及屏下系统在说明书摘要公布了：本申请适用于图像处理的技术领域，提供一种干涉条纹的校正方法及屏下系统，所述校正方法包括：获取不同拍摄距离的校正参数集合；获取待校正图像，并计算所述待校正图像的平均深度值；在所述不同拍摄距离的校正参数集合中，选择所述平均深度值对应的目标校正参数集合；根据所述目标校正参数集合中所述不同坐标位置对应的不同的目标校正参数，校正所述待校正图像中位于所述不同坐标位置上的待校正像素点的第一像素值，得到校正后的图像。通过上述方式，基于待校正图像的平均深度值调整不同坐标位置的待校正像素点的第一像素值，以减弱干涉条纹导致采集的图像质量较差的缺陷。
本发明授权一种干涉条纹的校正方法及屏下系统在权利要求书中公布了：1.一种干涉条纹的校正方法，其特征在于，所述校正方法，包括：获取不同拍摄距离的校正参数集合；所述校正参数集合中包括不同坐标位置对应的不同的校正参数；获取待校正图像，并计算所述待校正图像的平均深度值；所述平均深度值是指所述待校正图像中多个待校正像素点对应深度值的平均值；在所述不同拍摄距离的校正参数集合中，选择所述平均深度值对应的目标校正参数集合；根据所述目标校正参数集合中所述不同坐标位置对应的不同的目标校正参数，校正所述待校正图像中位于所述不同坐标位置上的待校正像素点的第一像素值，得到校正后的图像。
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