恭喜三得利控股株式会社西山优范获国家专利权
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龙图腾网恭喜三得利控股株式会社申请的专利大气压远程等离子体CVD装置、覆盖膜形成方法及塑料瓶制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115298353B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180021746.9，技术领域涉及：C23C16/511；该发明授权大气压远程等离子体CVD装置、覆盖膜形成方法及塑料瓶制造方法是由西山优范;赤沼泰彦;铃木哲也;白仓昌;田中卓己;三家本琴乃设计研发完成，并于2021-03-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本大气压远程等离子体CVD装置、覆盖膜形成方法及塑料瓶制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种等离子体CVD装置及覆盖膜形成方法，在包括塑料瓶等具有立体形状的基材的各种基材的表面上，能够在大气压下形成覆盖膜。一个实施方式的大气压远程等离子体CVD装置具备：具有气体入口、内部空间和等离子体出口的电介体腔室；及在内部空间内产生等离子体的等离子体产生装置。等离子体出口具备喷嘴，该喷嘴具有比内部空间的正交于气体流动方向的截面的平均截面面积更小的开口面积。
本发明授权大气压远程等离子体CVD装置、覆盖膜形成方法及塑料瓶制造方法在权利要求书中公布了：1.一种大气压远程等离子体CVD装置，具备：具有气体入口、内部空间和等离子体出口的电介体腔室；及在所述内部空间内产生等离子体的等离子体产生装置，其特征为，所述等离子体出口具备喷嘴，该喷嘴具有比所述内部空间的正交于气体流动方向的截面的平均截面面积更小的开口面积；所述大气压远程等离子体CVD装置还具备可留放、插入于所述内部空间及可从所述内部空间除去的导电体；所述导电体具备从所述电介体腔室的所述气体入口延伸的绝缘护套。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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