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龙图腾网恭喜浙江中晶新材料研究有限公司申请的专利一种高洁净度单晶硅抛光片清洗设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119303892B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411813425.4，技术领域涉及：B08B3/04；该发明授权一种高洁净度单晶硅抛光片清洗设备是由吴晓峰;孙新利;钱奥成;申文婷设计研发完成，并于2024-12-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高洁净度单晶硅抛光片清洗设备在说明书摘要公布了：本发明提供了一种高洁净度单晶硅抛光片清洗设备，包括工作室，工作室内部依次排列设有若干清洗池，清洗池长边方向的侧壁上设置有若干摆叉，摆叉上设置有安装座，安装座上安装有花篮，花篮用于承载单晶硅抛光片，位于尾端的清洗池中设置有若干组顶升驱动机构，顶升驱动机构对应安装于安装座及花篮之间，通过在花篮下方设置顶升驱动机构，在清洗及干燥的过程中，顶升驱动机构将单晶硅抛光片顶升脱离与花篮的接触，主动轮转动带动单晶硅抛光片旋转，实现单晶硅抛光片的支撑点交替支撑，完成全方位的清洗及干燥，满足工艺要求。

本发明授权一种高洁净度单晶硅抛光片清洗设备在权利要求书中公布了：1.一种高洁净度单晶硅抛光片清洗设备，包括工作室（1），所述工作室（1）内部依次排列设有若干清洗池（2），所述清洗池（2）长边方向的侧壁上设置有若干摆叉（3），所述摆叉（3）上设置有安装座（4），所述安装座（4）用于承接花篮（5），所述花篮（5）用于承载单晶硅抛光片（6），其特征在于：位于尾端的所述清洗池（2）中设置有若干组顶升驱动机构（7），所述顶升驱动机构（7）对应安装于所述安装座（4）及所述花篮（5）之间，在清洗及干燥的过程中，所述顶升驱动机构（7）将所述单晶硅抛光片（6）顶升脱离与所述花篮（5）的接触，并驱动所述单晶硅抛光片（6）旋转运动；所述顶升驱动机构（7）包括第一底座（71）及第二底座（72），所述第一底座（71）及所述第二底座（72）上分别设置有安装块（73）；两组所述安装块（73）之间转动设置有若干组主动轮（74）及若干组从动轮（75），所述主动轮（74）及所述从动轮（75）的分布与所述单晶硅抛光片（6）呈仿形设置；所述主动轮（74）的一端设置有驱动件（741）；所述第一底座（71）及所述第二底座（72）的底部还分别设置有顶升气缸（76）；所述安装块（73）呈分体式设置为第一安装块（731）及第二安装块（732），所述第一安装块（731）及所述第二安装块（732）上设置有相同数量且对应的所述主动轮（74）及所述从动轮（75）；所述第一底座（71）上转动设置有凸轮（711），所述凸轮（711）位于所述第一安装块（731）及所述第二安装块（732）之间；所述第二底座（72）与所述安装块（73）之间设置有若干弹簧（721）；所述从动轮（75）上对应所述单晶硅抛光片（6）开有若干V型槽（751）,V型槽（751）可以对单晶硅抛光片（6）进行限位；凸轮（711）上的凸起在转动过程中交替接触推动第一安装块（731）或第二安装块（732）向后滑动并挤压后方的弹簧（721），在凸起未接触第一安装块（731）或第二安装块（732）时，弹簧（721）复位推动第一安装块（731）或第二安装块（732）向前滑动；在第一安装块（731）及第二安装块（732）交替前后往复运动中，安装块（73）上的主动轮（74）与从动轮（75）带动单晶硅抛光片（6）摆动。

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