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龙图腾网获悉礼鼎半导体科技秦皇岛有限公司;礼鼎半导体科技(深圳)有限公司申请的专利除铜装置及电镀生产线获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222771001U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-18发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421423771.7，技术领域涉及：C25D21/06；该实用新型除铜装置及电镀生产线是由马参;杜鹏成设计研发完成，并于2024-06-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本除铜装置及电镀生产线在说明书摘要公布了：本申请公开除铜装置和电镀生产线。除铜装置包括进液腔体、活塞组件、连通腔体和过滤组件。活塞组件包括活塞腔体、活塞和推杆，活塞滑动地且密封地设置于活塞腔体内，推杆与活塞连接并部分伸出活塞腔体外，过滤组件包括过滤腔体和设置于过滤腔体内的除铜树脂，进液腔体、活塞腔体、连通腔体和过滤腔体依次连通，进液腔体设有第一进液口和第一阀门，连通腔体设有第二入口和第二阀门，第一阀门用于控制第一进液口的开闭，第二阀门用于控制第二入口的开闭，推杆被配置为推动活塞朝向或远离活塞腔体底部移动。

本实用新型除铜装置及电镀生产线在权利要求书中公布了：1.一种除铜装置，包括一进液腔体、一活塞组件、一连通腔体和一过滤组件，其特征在于：所述活塞组件包括活塞腔体、活塞和推杆，所述活塞滑动地且密封地设置于所述活塞腔体内，所述推杆与所述活塞连接并部分伸出所述活塞腔体外，所述过滤组件包括过滤腔体和设置于所述过滤腔体内的除铜树脂，所述进液腔体、所述活塞腔体、所述连通腔体和所述过滤腔体依次连通，所述进液腔体设有第一进液口，所述活塞腔体设有第一入口和第一出口，所述第一入口与所述进液腔体连通，所述连通腔体设有第二入口和第二出口，所述第二入口与所述第一出口连通，所述过滤腔体设有第一出液口，所述进液腔体设有第一阀门，所述第一阀门用于控制所述第一进液口的开闭，所述连通腔体设有第二阀门，所述第二阀门用于控制所述第二入口的开闭，所述推杆被配置为推动所述活塞朝向或远离所述活塞腔体底部移动；当所述推杆推动所述活塞远离所述活塞腔体底部移动时，所述第一阀门被配置为打开所述第一进液口，所述第二阀门被配置为关闭所述第二入口；以及当所述推杆推动所述活塞朝向所述活塞腔体底部移动时，所述第一阀门被配置为关闭所述第一进液口，所述第二阀门被配置为打开所述第二入口。

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