江苏普清净化科技有限公司张庆斌获国家专利权
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龙图腾网获悉江苏普清净化科技有限公司申请的专利一种防静电高阻隔高分子薄膜及其在半导体包装中的应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118206863B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410297464.7，技术领域涉及：C08L75/04；该发明授权一种防静电高阻隔高分子薄膜及其在半导体包装中的应用是由张庆斌;金明辉;范士品;吴荣军;庄蕾;朱华设计研发完成，并于2024-03-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种防静电高阻隔高分子薄膜及其在半导体包装中的应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种防静电高阻隔高分子薄膜及其在半导体包装中的应用，涉及高分子材料技术领域。本发明在制备防静电高阻隔高分子薄膜时，先将3，4‑乙烯二氧噻吩、3‑噻吩甲醇氧化聚合并沉积在纳米蒙脱土上，制得改性纳米蒙脱土；将二氯磷酸苯酯与环氧丙醇反应制得环氧化苯基磷酸酯；将环氧化苯基磷酸酯与二氧化碳反应制得功能化环碳酸酯；将功能化环碳酸酯与1，6‑己二胺反应制得聚氨酯；将聚氨酯、改性纳米蒙脱土、封闭型异氰酸酯交联剂通过压延成型制得防静电高阻隔高分子薄膜。本发明制备的防静电高阻隔高分子薄膜具有优良的防静电、高阻隔、阻燃和力学性能。
本发明授权一种防静电高阻隔高分子薄膜及其在半导体包装中的应用在权利要求书中公布了：1.一种防静电高阻隔高分子薄膜，其特征在于，所述防静电高阻隔高分子薄膜是将环氧化苯基磷酸酯与二氧化碳反应制得功能化环碳酸酯；将功能化环碳酸酯与1,6-己二胺反应制得聚氨酯；将聚氨酯、改性纳米蒙脱土、封闭型异氰酸酯交联剂通过压延成型制得;所述改性纳米蒙脱土是将3,4-乙烯二氧噻吩、3-噻吩甲醇氧化聚合并沉积在纳米蒙脱土上制得。
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