恭喜中国科学院上海微系统与信息技术研究所彭炜获国家专利权
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龙图腾网恭喜中国科学院上海微系统与信息技术研究所申请的专利一种胶型侧壁形貌表征方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115015309B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-18发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210879520.9,技术领域涉及:G01N23/2251;该发明授权一种胶型侧壁形貌表征方法是由彭炜;李有金;刘晓宇设计研发完成,并于2022-07-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种胶型侧壁形貌表征方法在说明书摘要公布了:本发明提供一种胶型侧壁形貌表征方法,该方法包括:提供待测样品,待测样品包括衬底与位于衬底上方的胶层,胶层中设有图形化的开口;于待测样品的预设区域进行切割以显露特征结构的纵截面;采用图像采集装置获取特征结构的纵截面图像与表面图像;基于表面图像获取待侧样品的特征尺寸,基于纵截面图像获取待侧样品的胶层厚度及开口的纵截面面积值,基于特征尺寸、胶层厚度及开口的纵截面面积值表征胶型侧壁形貌。本发明的胶型侧壁形貌表征方法基于常规图像采集装置测试即可实现,对图像测量的误差具有较高的宽容度;并且,能够实现对高深宽比胶型结构侧壁形貌的高效、准确的表征,能够直观反映各种特征尺寸、各种深宽比范围的胶型侧壁形貌。
本发明授权一种胶型侧壁形貌表征方法在权利要求书中公布了:1.一种胶型侧壁形貌表征方法,其特征在于,包括以下步骤:提供待测样品,所述待测样品包括衬底与位于所述衬底上方的胶层,所述胶层中设有图形化的开口;于所述待测样品的预设区域进行切割以显露特征结构的纵截面;采用图像采集装置获取所述特征结构的纵截面图像与表面图像;基于所述表面图像获取所述待测样品的特征尺寸CD,基于所述纵截面图像获取所述待测样品的胶层厚度h及所述开口的纵截面面积值S,基于所述特征尺寸CD、所述胶层厚度h及所述开口的纵截面面积值S表征胶型侧壁形貌;其中,基于所述特征尺寸CD、所述胶层厚度h及所述开口的纵截面面积值S表征胶型侧壁形貌的步骤包括:计算截面轮廓面积差值ΔS,ΔS=S-h×CD;基于所述截面轮廓面积差值ΔS的大小表征所述胶型侧壁形貌,若ΔS0,判断所述开口的纵截面呈正梯形状;若ΔS=0,判断所述开口的纵截面呈长方形状;若ΔS0,判断所述胶层未曝透或显影不足。
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