恭喜大日本印刷株式会社冈宏树获国家专利权
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龙图腾网恭喜大日本印刷株式会社申请的专利蒸镀掩模的制造方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116356252B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-18发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310424015.X,技术领域涉及:C23C14/04;该发明授权蒸镀掩模的制造方法是由冈宏树;池永知加雄;松浦幸代;远藤翔悟;初田千秋;成田亚沙子设计研发完成,并于2020-10-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本蒸镀掩模的制造方法在说明书摘要公布了:本公开提供蒸镀掩模的制造方法。一种蒸镀掩模的制造方法,其具备:准备金属板的工序,该金属板具备第1面和位于上述第1面的相反侧的第2面;以及加工工序,在上述金属板上形成两个以上的贯通孔,上述加工工序包含:第1面蚀刻工序,通过对上述第1面进行蚀刻而在上述第1面形成两个以上的第1凹部;利用树脂覆盖上述第1凹部的工序;第2面蚀刻工序,通过对上述第2面进行蚀刻而在上述第2面形成与上述两个以上的第1凹部连接的两个以上的第2凹部;以及除去上述树脂的工序,上述第1凹部包含形成有凹陷部的壁面、或者上述第2凹部包含形成有凹陷部的壁面。
本发明授权蒸镀掩模的制造方法在权利要求书中公布了:1.一种金属板,其用于制造蒸镀掩模,该金属板具备第1面和位于所述第1面的相反侧的第2面,并且包含铁和镍,其中,具有包含除铁和镍以外的元素作为主要成分的颗粒,在包括所述金属板的所述第1面和所述第2面的样品中,满足下述条件1、2:1每1mm3体积的所述样品中包含的具有1μm以上的等效圆直径的所述颗粒的数量为50个以上3000个以下;2每1mm3体积的所述样品中包含的具有3μm以上的等效圆直径的所述颗粒的数量为50个以下,所述颗粒至少包含以硅为主要成分的颗粒,所述颗粒的Si比例为80.9%以下,所述Si比例是Si数量相对于具有1μm以上的等效圆直径的所述颗粒的合计数量的比例,所述合计数量是每1mm3体积的所述样品中包含的具有1μm以上的等效圆直径的所述颗粒的数量,所述Si数量是每1mm3体积的所述样品中包含的具有1μm以上的等效圆直径且以硅为主要成分的所述颗粒的数量。
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