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龙图腾网恭喜深圳立仪科技有限公司申请的专利一种基于光谱共焦技术的顶点测量装置及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119492328B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510070971.1，技术领域涉及：G01B11/00；该发明授权一种基于光谱共焦技术的顶点测量装置及方法是由刘杰波设计研发完成，并于2025-01-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于光谱共焦技术的顶点测量装置及方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于光谱共焦技术的顶点测量装置及方法，包括通过多个布置成预设几何形状的出光径孔发射多束光线，通过色散镜头将多束光线色散为不同波长的色散光束照射到被测工件表面，再接收反射光线，并将反射光线通过对应的光纤通道传输至光谱解析装置；光谱解析装置对每组反射光线的光强度和波长进行解析，提取光谱数据；通过每组反射光线的光谱数据的变化情况，计算工件表面顶点的高度或空间坐标；处理电路将计算出的顶点高度或空间坐标信息输出；本方法通过巧妙的光谱分析和几何拟合技术，能够有效地推导出工件的顶点信息，具有广泛的适用性，尤其适用于高精度的球面、非球面和锥面的顶点测量场景。

本发明授权一种基于光谱共焦技术的顶点测量装置及方法在权利要求书中公布了：1.一种基于光谱共焦技术的顶点测量方法，其特征在于，包括：初始化光源并校准系统，通过多个布置成预设几何形状的出光径孔发射多束光线，通过色散镜头将多束光线色散为不同波长的色散光束，并根据预设几何形状，分别照射到被测工件表面的不同位置；通过多个所述出光径孔再接收反射光线，并将所述反射光线通过对应的光纤通道传输至光谱解析装置；所述光谱解析装置对每组反射光线的光强度和波长进行解析，提取光谱数据；通过每组反射光线的光谱数据的变化情况，确定每个反射点的三维坐标，将各个反射点的空间坐标结合已知的出光径孔位置对已知部分或全部形状参数的工件进行几何拟合，计算工件表面顶点的高度或空间坐标；处理电路将计算出的顶点高度或空间坐标信息输出；其中，所述通过每组反射光线的光谱数据的变化情况，确定每个反射点的三维坐标，将各个反射点的空间坐标结合已知的出光径孔位置进行几何拟合，计算工件表面顶点的高度或空间坐标，具体包括：对于每组反射光线，通过光谱解析装置提取其光谱数据，获取光强度随波长变化的特征曲线，基于所述特征曲线识别出各个波长对应的光强度峰值；具体为：光谱解析装置对反射光的光强度随波长变化的关系进行测量，生成一条完整的特征曲线，通过对特征曲线的分析，以识别出各个波长对应的光强度峰值位置，光强度峰值位置反映了在特定波长下，反射光的强度达到最大，代表了光在这些波长处受到工件表面的显著影响，用于光程差的计算；通过比对入射光谱与反射光谱中的波长偏移情况，确定光程变化量，并通过色散光线的波长与光程之间的关系，计算每个反射点的光程差；基于光程差和已知系统参数，转换光程差为各反射点与出光径孔之间的距离信息；通过每个反射点的距离信息和已知的出光径孔位置，采用三角测量法，计算出各反射点在三维空间中的坐标；具体为：利用已知的出光孔径坐标、反射点的距离，以及光线的入射和反射角度，建立空间坐标系，通过解算三角形的边长和角度关系，精确确定每个反射点的（x，y，z）坐标；将所有反射点的空间坐标输入到几何拟合算法中，结合工件已知的部分或全部形状参数，进行曲面模型拟合；基于拟合的曲面模型，曲面微分分析，寻找曲面上的最高点，以确定工件表面的顶点位置；具体为：基于拟合得到的工件表面曲面模型，进行曲面微分分析，通过计算曲面的梯度和法向量，并结合使用微分几何的原理，分析曲面在不同方向上的变化趋势，定位曲面上的极值点，即找到曲面上的最高点，之后，确定顶点的空间坐标和高度信息，完成对工件表面顶点测量。

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