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龙图腾网恭喜深圳市欧冶半导体有限公司申请的专利图像光晕去除方法、装置、计算机设备和可读存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119399079B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411975517.2，技术领域涉及：G06T5/77；该发明授权图像光晕去除方法、装置、计算机设备和可读存储介质是由陈月;周涤非设计研发完成，并于2024-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本图像光晕去除方法、装置、计算机设备和可读存储介质在说明书摘要公布了：本申请涉及一种图像光晕去除方法、装置、计算机设备和计算机可读存储介质。所述方法包括：获取原始光晕图像，基于原始光晕图像进行多次缩放处理，获得多个尺度的光晕图像；对多个尺度的光晕图像进行多尺度特征提取，获得多个尺度的光晕特征图；基于多个尺度的光晕特征图进行多尺度融合，获得光晕引导图；基于光晕引导图，去除原始光晕图像中的光晕，获得目标图像。采用本方法能够通过精准定位并有效去除光晕，提高了电子后视镜显示画面的质量，保证了驾驶员的清晰视野，降低了夜间驾驶的风险。并且整个过程无需额外添加物理组件，仅依靠软件算法实现了高质量的光晕去除，大大节省了制造成本。

本发明授权图像光晕去除方法、装置、计算机设备和可读存储介质在权利要求书中公布了：1.一种图像光晕去除方法，其特征在于，所述方法包括：获取原始光晕图像，基于所述原始光晕图像进行多次缩放处理，获得多个尺度的光晕图像；对所述多个尺度的光晕图像进行卷积处理，获得多个尺度的卷积特征；针对每个尺度，将所针对尺度的上一尺度的光晕特征图进行下采样处理，获得下采样后的光晕特征图，所述下采样后的光晕特征图和所针对尺度的卷积特征具有相同尺度；对所针对尺度的卷积特征和所述下采样后的光晕特征图进行通道拼接，获得所针对尺度的融合特征；对所针对尺度的融合特征进行特征提取，获得所针对尺度的光晕特征图；针对每个尺度，将所针对尺度的光晕特征图进行上采样处理，获得上采样后的光晕特征图；确定所针对尺度的上一尺度的光晕特征图，将所述上采样后的光晕特征图和所述上一尺度的光晕特征图进行融合，获得所针对尺度的引导特征图；所述上采样后的光晕特征图与所述上一尺度的光晕特征图具有相同尺度；将多个尺度中最后一尺度的引导特征图作为光晕引导图；基于所述光晕引导图，去除所述原始光晕图像中的光晕，获得目标图像。

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