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龙图腾网恭喜浙江厚积科技有限公司申请的专利一种晶圆镜面抛光装置及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119347640B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411921321.5，技术领域涉及：B24B37/10；该发明授权一种晶圆镜面抛光装置及方法是由苏晓平;苏彦城;施逸廷;涂婳设计研发完成，并于2024-12-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种晶圆镜面抛光装置及方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种晶圆镜面抛光装置及方法，旨在解决现有技术中采用多片式抛光机对晶圆进行抛光时，容易出现晶圆厚度和总厚度偏差较难控制的情况，从而影响了基板和晶圆质量的一致性，同时降低了生产效率的问题。本发明通过以下技术方案解决上述技术问题：包括：承载滑台，承载滑台上设置有沿其长度方向移动的承载台，承载台上设置有能够转动的晶圆真空吸盘；承载台的上方沿其长度方向依次设置有粗抛光主轴和精抛光主轴，粗抛光主轴和精抛光主轴均沿其自身轴向方向移动；设置在承载台上的晶圆测厚仪和抛光垫整理器，抛光垫整理器包括毛刷盘。

本发明授权一种晶圆镜面抛光装置及方法在权利要求书中公布了：1.一种晶圆镜面抛光装置，其特征是，包括：承载滑台，其设置有沿其长度方向移动的承载台，承载台上设置有能够转动的晶圆真空吸盘；承载台的上方沿其长度方向依次设置有粗抛光主轴和精抛光主轴，粗抛光主轴和精抛光主轴均沿其自身轴向方向移动；设置在承载台上的晶圆测厚仪和抛光垫整理器，抛光垫整理器包括毛刷盘；晶圆放置在晶圆真空吸盘上，承载台带动晶圆依次移动至粗抛光主轴和精抛光主轴的下方，对晶圆分别进行粗抛和精抛；进行抛光时，晶圆测厚仪实时检测晶圆的厚度，毛刷盘转动，实时清理粗抛光主轴、精抛光主轴底部的抛光垫；粗抛光主轴与精抛光主轴的底部均设置有抛光锁头，抛光锁头的外侧壁设置有若干个清扫装置，清扫装置包括清扫杆，清扫杆上设置有清扫刷；清扫杆的一端与抛光锁头的外侧壁转动连接，在抛光锁头外侧壁设置有限位座和抵接座，抵接座和限位座分别位于清扫杆转动位置的下方和上方，在抵接座与清扫杆之间抵接有复位弹簧，复位弹簧推动清扫杆抵接在限位座上；在毛刷盘的外围设置有引导轨道，引导轨道一端的开口逐渐增大。

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