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恭喜深圳乐成光电有限公司毛利良获国家专利权

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龙图腾网恭喜深圳乐成光电有限公司申请的专利码盘测量数据的分析方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119197604B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-22发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411708570.6,技术领域涉及:G01D5/347;该发明授权码盘测量数据的分析方法是由毛利良设计研发完成,并于2024-11-27向国家知识产权局提交的专利申请。

码盘测量数据的分析方法在说明书摘要公布了:本申请提供码盘测量数据的分析方法,涉及信息技术领域,包括:获取码盘光栅区与非光栅区的表面粗糙度测量数据,针对表面粗糙度突变区域,采用数字图像处理对测量数据进行分割,得到光栅区与非光栅区的粗糙度分布图;根据光栅区与非光栅区的粗糙度分布图,构建粗糙度突变区域的三维几何模型,通过有限元分析方法,计算保护膜在粗糙度突变区域的应力分布状态,获得保护膜的应力分布云图;针对不同深度光栅之间的过渡带,采用扫描电镜获取过渡带的微观形貌特征,通过图像处理算法提取过渡带的宽度参数,建立过渡带宽度与光栅深度的关联模型。为码盘保护膜贴合工艺优化提供科学依据,具有重要的工程应用价值。

本发明授权码盘测量数据的分析方法在权利要求书中公布了:1.码盘测量数据的分析方法,其特征在于,所述方法包括:获取码盘光栅区与非光栅区的表面粗糙度测量数据,针对表面粗糙度突变区域,采用数字图像处理对测量数据进行分割,得到光栅区与非光栅区的粗糙度分布图;根据光栅区与非光栅区的粗糙度分布图,构建粗糙度突变区域的三维几何模型,通过有限元分析方法,计算保护膜在粗糙度突变区域的应力分布状态,获得保护膜的应力分布云图;针对不同深度光栅之间的过渡带,采用扫描电镜获取过渡带的微观形貌特征,通过图像处理算法提取过渡带的宽度参数,建立过渡带宽度与光栅深度的关联模型;根据过渡带宽度与光栅深度的关联模型,结合保护膜材料特性参数和应力分布云图,采用数值模拟方法分析保护膜在过渡带区域的应力分布梯度,获得应力梯度随光栅深度和过渡带宽度的变化规律;结合保护膜在过渡带区域的应力分布梯度筛选出关键变量,包括光栅区与非光栅区之间的表面粗糙度差异、过渡带宽度和光栅深度,形成包含变量和由此产生的保护膜应力分布数据,使用回归分析模型拟合数据并确定每个变量的权重或系数,得到主控因素,通过决定系数R平方和残差图检查模型诊断,以评估模型的拟合优度;根据主控因素和应力梯度的变化规律,采用正交试验设计方法,优化光栅区与非光栅区的表面粗糙度、过渡带宽度以及光栅深度工艺参数,获得保护膜应力分布均匀性最优的工艺参数组合,包括膜厚为0.3到0.5mm;根据优化后的工艺参数组合,对码盘的正反面进行贴膜处理,并对贴膜处理后的码盘进行保护膜贴合应力分布测试,验证优化贴膜工艺的有效性,确保码盘在使用过程中的可靠性和稳定性。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人深圳乐成光电有限公司,其通讯地址为:518000 广东省深圳市南山区粤海街道高新区社区白石路3609号深圳湾科技生态园二区9栋422;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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