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恭喜深圳技术大学吴永伟获国家专利权

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龙图腾网恭喜深圳技术大学申请的专利一种量子点转印方法及QLED制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN118574481B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-22发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202410569051.X,技术领域涉及:H10K71/12;该发明授权一种量子点转印方法及QLED制备方法是由吴永伟;黄子闻设计研发完成,并于2024-05-09向国家知识产权局提交的专利申请。

一种量子点转印方法及QLED制备方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种量子点转印方法及QLED制备方法,该转印方法包括:对第一量子点进行水处理和加热处理,得到难溶于极性与非极性溶剂的第二量子点;其中,所述第一量子点具有第一配体,第二量子点具有第二配体;将所述第一量子点制成第一薄膜,以及将所述第二量子点制成第二薄膜;通过转印头对所述第二薄膜进行第一次蘸取,并在第一次蘸取完成后继续对所述第一薄膜进行第二次蘸取;利用蘸取有第一薄膜和第二薄膜的转印头对受转印的基板进行印制。本发明将两种具有不同性质配体的量子点同时蘸取到转印头上,如此可以减少转印不同量子点所需的工艺步骤,为印制QLED‑倒置QLED或多色QLED层提供了一种更简便的方法,同时还可以降低QLED印制成本。

本发明授权一种量子点转印方法及QLED制备方法在权利要求书中公布了:1.一种量子点转印方法,其特征在于,包括:对第一量子点进行水处理和加热处理,得到难溶于极性与非极性溶剂的第二量子点;其中,所述第一量子点具有第一配体,第二量子点具有第二配体;所述第一配体为油酸配体,所述第二配体为羟基配体;将所述第一量子点制成第一薄膜,以及将所述第二量子点制成第二薄膜;通过转印头对所述第二薄膜进行第一次蘸取,并在第一次蘸取完成后继续对所述第一薄膜进行第二次蘸取;利用蘸取有第一薄膜和第二薄膜的转印头对受转印的基板进行印制;所述对第一量子点进行水处理和加热处理,得到难溶于极性与非极性溶剂的第二量子点,包括:按照下式,对所述对第一量子点进行水处理,得到所述第二量子点:QD-C18H34O2+H2O=QD-OH+C18H35O2其中,QD-C18H34O2表示具有油酸配体的第一量子点,QD-OH表示具有羟基配体的第二量子点,H2O为水,C18H35O2为聚乙二醇硬脂酸酯。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人深圳技术大学,其通讯地址为:518000 广东省深圳市坪山区石井街道兰田路3002号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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