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龙图腾网恭喜大金工业株式会社申请的专利表面处理剂获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116640498B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310142082.2，技术领域涉及：C09D171/02；该发明授权表面处理剂是由山口史彦;野村孝史;内藤真人;片冈真奈美;G·托尔蒂西耶设计研发完成，并于2023-02-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本表面处理剂在说明书摘要公布了：本发明提供一种具有摩擦耐久性更高的表面处理层的物品。该表面处理剂含有成分A和成分B，其中，成分A：含氟代聚醚基的硅烷化合物；成分B：含聚氧化烯基化合物。

本发明授权表面处理剂在权利要求书中公布了：1.一种表面处理剂，其特征在于，含有：成分A：含氟代聚醚基的硅烷化合物，和成分B：含聚氧化烯基化合物，所述含氟代聚醚基的硅烷化合物为下述式A1或A2所示的化合物：RF1α1-XA-RSiβ1A1RSiγ1-XA-RF2-XA-RSiγ1A2式A1或A2中：RF1分别独立地为Rf1－RF－Oq－，RF2为－Rf2p－RF－Oq－，RF分别独立地为2价的氟代聚醚基，Rf1分别独立地为可以取代有1个或1个以上氟原子的C1－16烷基，Rf2为可以取代有1个或1个以上氟原子的C1－6亚烷基，p为0或1，q分别独立地为0或1，RSi分别独立地为含有键结有羟基、水解性基团、氢原子或1价的有机基团的Si原子的1价基团，至少1个RSi为含有键结有羟基或水解性基团的Si原子的1价基团，XA分别独立地为单键或2～10价的有机基团，α1为1～9的整数，β1为1～9的整数，γ1分别独立地为1～9的整数，所述含聚氧化烯基化合物为下述式B所示的化合物：REXB-RTδ2δ1B式B中：RE分别独立地为1～10价的聚氧化烯基，XB分别独立地为下述式：－R51p5－X51q5－所示的2价的有机基团，RT分别独立地为C1－6烷基、－OR65、－SR65、－NR652、－COOR65、－COR65、－OCOR65、－CONR65、－NR65COR65、C3－16环烷基、C5－16芳基、或者含有键结有羟基、水解性基团、氢原子或1价的有机基团的Si原子的1价基团，R65分别独立地为氢原子或C1－6烷基，δ1为1～10的整数，δ2为1，所述式－R51p5－X51q5－中：R51为单键、－CH2s5－或邻亚苯基、间亚苯基或对亚苯基，s5为1～20的整数，X51为－X52l5－，X52分别独立地为选自－O－、－S－、邻亚苯基、间亚苯基或对亚苯基、－COO－、－SiR532－、－SiR532Om5－SiR532－、－CONR54－、－O－CONR54－、－NR54－和－CH2n5－中的基团，R53分别独立地为苯基、C1－6烷基或C1－6烷氧基，R54分别独立地为氢原子、苯基或C1－6烷基，m5分别独立地为1～100的整数，n5分别独立地为1～20的整数，l5为1～10的整数，p5为0或1，q5为0或1，其中，p5和q5中的至少一者为1，标注p5或q5并以括号括起来的各重复单元的存在顺序是任意的，右侧与RT键结。

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