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恭喜湖北兴福电子材料股份有限公司武昊冉获国家专利权

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龙图腾网恭喜湖北兴福电子材料股份有限公司申请的专利一种氧化硅高选择性蚀刻液获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116240023B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-22发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211572581.7,技术领域涉及:C09K13/08;该发明授权一种氧化硅高选择性蚀刻液是由武昊冉;张庭;贺兆波;李金航;许真;董攀飞;李誉;王巍设计研发完成,并于2022-12-08向国家知识产权局提交的专利申请。

一种氧化硅高选择性蚀刻液在说明书摘要公布了:本发明提供了一种氧化硅高选择性蚀刻液,该蚀刻液按质量百分数计,包括以下成分:1‑6%的氢氟酸、10‑30%的氟化铵、0.01‑0.1%的活性剂,余量为超纯水;其中活性剂为有机胺类化合物与含磷酸基的化合物的混合物,有机胺类化合物优选长碳链有机胺。通过活性剂的复配使用,可以更加高效地抑制金属层地蚀刻,蚀刻选择比可以高于20;同时该蚀刻液可以快速浸润到氧化硅深孔结构中,将深孔中的氧化硅蚀刻完全,满足工艺的要求。

本发明授权一种氧化硅高选择性蚀刻液在权利要求书中公布了:1.一种氧化硅高选择性蚀刻液,其特征在于:蚀刻液按质量百分数计,包括以下成分:1-6%的氢氟酸、10-30%的氟化铵、0.01-0.1%的活性剂,余量为超纯水;其中活性剂为有机胺类化合物与含磷酸基的化合物的混合物;有机胺类化合物为长碳链的有机胺,其中C≥5,具体为戊胺、己胺、庚胺、正辛胺、异辛胺、二异辛胺、三辛胺、壬胺、癸胺、2-乙基己氧基丙胺、1,5-二甲基己胺中的一种或几种组合;含磷酸基的化合物为磷酸、焦磷酸、磷酸铵、磷酸氢二铵、磷酸二氢铵、焦磷酸铵、三聚磷酸铵、羟基乙叉二膦酸中的一种或几种组合。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人湖北兴福电子材料股份有限公司,其通讯地址为:443007 湖北省宜昌市猇亭区猇亭大道66-3号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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