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恭喜中北大学王任鑫获国家专利权

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龙图腾网恭喜中北大学申请的专利CMOS-MEMS集成声换能器及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114890375B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-22发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210525272.8,技术领域涉及:B81B7/02;该发明授权CMOS-MEMS集成声换能器及其制备方法是由王任鑫;张文栋;李照东;张国军;何常德;杨玉华;崔建功设计研发完成,并于2022-05-15向国家知识产权局提交的专利申请。

CMOS-MEMS集成声换能器及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明提供了一种CMOS‑MEMS集成声换能器及其制备方法。该传感器既能作为麦克风传感器又能作为超声换能器,其由下而上依次为基底层、交替设置的介质层及金属层、钝化层,第n层介质层上刻蚀有空腔,空腔顶部形成振膜及上电极、底部形成下电极。制备时,使用COMS工艺的后端(BEOL)层作为MEMS器件的结构层,COMS电子层在MEMS器件层下方集成,各金属层间通过钨塞互连,最后通过干法刻蚀在介质层上形成空腔。本发明传感器具有可靠性好、体积小、频带宽、灵敏度高、易于批量生产等特点,可以应用于医学、军事、工业、农业等众多领域。

本发明授权CMOS-MEMS集成声换能器及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种CMOS-MEMS集成声换能器,其特征在于:包括基底层,基底层上由下而上依次设置有第一层介质层、第一层金属层、第二层介质层、第二层金属层、......、第(n-1)层介质层、第(n-1)层金属层、第n层介质层、第n层金属层,n≥3;相邻的各层金属层之间通过钨塞互连,第n层金属层上设置有钝化层,钝化层上设置有上电极焊点和下电极焊点;第n层介质层上刻蚀有一个空腔;空腔顶部的钝化层及第n层金属层部分形成振膜,振膜中的第n层金属层作为上电极,空腔底部的第(n-1)层金属层作为下电极,空腔顶部的上电极与底部的下电极通过钨塞互连;第一层金属层至第(n-2)层金属层作为电子层。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人中北大学,其通讯地址为:030051 山西省太原市尖草坪区学院路3号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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