恭喜株式会社东芝;纽富来科技股份有限公司古谷优树获国家专利权
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龙图腾网恭喜株式会社东芝;纽富来科技股份有限公司申请的专利整流板、流体导入装置以及成膜装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114438589B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111267961.5，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权整流板、流体导入装置以及成膜装置是由古谷优树;醍醐佳明;梅津拓人;春山俊;盐泽惠子设计研发完成，并于2021-10-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本整流板、流体导入装置以及成膜装置在说明书摘要公布了：提供能够抑制向成膜对象物的成膜速度的变动的整流板。根据实施方式，整流板具有低流路阻力区域和多个高流路阻力区域，所述整流板与喷射流体的多个喷嘴对置地设置，对流体进行整流，所述高流路阻力区域具有与多个喷嘴分别对置的喷嘴对置区域，所述低流路阻力区域，将多个高流路阻力区域分别包围，形成有多个第一贯通孔，且与高流路阻力区域相比流路阻力小。
本发明授权整流板、流体导入装置以及成膜装置在权利要求书中公布了：1.一种整流板，与喷射流体的多个喷嘴对置地设置，对所述流体进行整流，其特征在于，具有：多个第一贯通孔，分别具有比所述多个喷嘴小的直径，供流体通过；多个高流路阻力区域，具有与所述多个喷嘴分别对置的喷嘴对置区域；以及低流路阻力区域，将所述多个高流路阻力区域分别包围，形成多个第一贯通孔，使所述多个高流路阻力区域各自分开，所述高流路阻力区域封闭，或者在所述多个高流路阻力区域分别形成有与所述多个第一贯通孔相比开口面积小的1个或多个第二贯通孔，所述高流路阻力区域的开口面积密度，比所述低流路阻力区域的开口面积密度小。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人株式会社东芝;纽富来科技股份有限公司，其通讯地址为：日本东京都；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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