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恭喜苏州维业达科技有限公司;维业达科技(江苏)有限公司基亮亮获国家专利权

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龙图腾网恭喜苏州维业达科技有限公司;维业达科技(江苏)有限公司申请的专利导电膜及其制作方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113741714B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-22发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202010462981.7,技术领域涉及:G06F3/041;该发明授权导电膜及其制作方法是由基亮亮;刘麟跃;周小红;赵云龙设计研发完成,并于2020-05-27向国家知识产权局提交的专利申请。

导电膜及其制作方法在说明书摘要公布了:本发明提供一种导电膜,包括衬底,衬底上设有包括多个图形凹槽的结构层,结构层包括感应区域及位于感应区域边缘的引线区域,引线区域包括引线部和电连接部,引线部和电连接部内均设有多个图形凹槽,在感应区域、引线部和电连接部的图形凹槽内设有第一导电层,在电连接部的图形凹槽内设有第二导电层,第二导电层重叠设置在第一导电层上,感应区域通过电连接部与外部电路电连接。本发明还提供一种导电膜的制作方法。本发明的导电膜及其制作方法,不仅能够省去多次填充导电材料的步骤,并且提升了电连接的稳定性。

本发明授权导电膜及其制作方法在权利要求书中公布了:1.一种导电膜,包括衬底,其特征在于,所述衬底上设有包括多个图形凹槽的结构层,所述结构层包括感应区域及位于所述感应区域边缘的引线区域,所述引线区域包括引线部和电连接部,所述引线部和所述电连接部内均设有多个所述图形凹槽,在所述感应区域、所述引线部和所述电连接部的所述图形凹槽内设有第一导电层,在所述电连接部的所述图形凹槽内设有第二导电层,所述第二导电层重叠设置在所述第一导电层上,所述感应区域通过所述电连接部与外部电路电连接,所述第一导电层的厚度小于所述图形凹槽的深度,所述第二导电层至少部分设置在所述图形凹槽内,所述电连接部的图形凹槽的深度和或宽度大于所述感应区域和所述引线部的深度和或宽度。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人苏州维业达科技有限公司;维业达科技(江苏)有限公司,其通讯地址为:215026 江苏省苏州市苏州工业园区新昌路68号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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