买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网恭喜合肥晶合集成电路股份有限公司申请的专利一种光学临近校正方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119556521B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510128108.7，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权一种光学临近校正方法是由刘秀梅;罗招龙设计研发完成，并于2025-02-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光学临近校正方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种光学临近校正方法，应用于半导体技术领域。在本发明中，针对目标版图中的一些特殊区域，如相邻主图形之间仅可加入一辅助图形的情况，提出了一种新的辅助图形添加方式和调整形状后的辅助图形，具体可在目标主图形组的相邻主图形之间先加入一宽度与主图形的宽度相等的初始辅助图形，改变了目标版图中主图形的图形密度，使稀疏图形也具有密集图形的特性，之后再对加入的初始辅助图形进行调整，将初始辅助图形改变成内部具有多个间隔隙的目标辅助图形，以利用间隔隙减小目标辅助图形的实际宽度，减小曝光显影时目标辅助图形处的衍射光线的光强值，提高主图形的归一化对数斜率，减小边缘放置误差EPE，增大工艺窗口。

本发明授权一种光学临近校正方法在权利要求书中公布了：1.一种光学临近校正方法，其特征在于，包括：提供一目标版图，包括多个主图形；基于相邻所述主图形之间的间距长度，筛选出间距长度满足预设范围的多个主图形，以形成目标主图形组；在所述目标主图形组中的相邻主图形之间分别加入一初始辅助图形，所述初始辅助图形的宽度与所述主图形的宽度相同；去除所述初始辅助图形的部分图形，以获得目标辅助图形，所述目标辅助图形具有至少一间隔隙，所述间隔隙将所述目标辅助图形分割成多个沿水平方向相互间隔排布的子辅助图形；对加入所述目标辅助图形后的目标版图进行光学临近校正；其中，去除所述初始辅助图形的部分图形的步骤，包括：获取调整图形，所述调整图形包括至少一个子调整图形，所述子调整图形的宽度小于所述初始辅助图形的宽度；将所述调整图形与所述初始辅助图形交叠，并去除与所述调整图形存在交集的初始辅助图形。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人合肥晶合集成电路股份有限公司，其通讯地址为：230012 安徽省合肥市新站区合肥综合保税区内西淝河路88号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。