帝尔激光科技(无锡)有限公司侯伟获国家专利权
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龙图腾网获悉帝尔激光科技(无锡)有限公司申请的专利一种基于多级吸附传输的硅片液滴清除装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222813575U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-29发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421314605.3，技术领域涉及：H01L21/683；该实用新型一种基于多级吸附传输的硅片液滴清除装置是由侯伟;汤恒;孙宣豹;陈旺;仓涛;杨玉明;肖建;雷合鸿设计研发完成，并于2024-06-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于多级吸附传输的硅片液滴清除装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种基于多级吸附传输的硅片液滴清除装置，属于太阳能电池制备技术领域，该装置包括：吸附传动机构，包括传送带、设于其下方的吸附单元及抽气单元；所述传送带用于传输硅片，且传送带上设有若干吸附孔；所述吸附单元包括吸附腔室和其顶部从下至上依次设置的至少两级吸附台面，且每级吸附台面上均设有若干通孔，各通孔与吸附腔室、吸附孔连通；所述吸附腔室与抽气单元连通；加热清除机构，设于吸附传动机构的上方，与传送带上硅片的液滴清除区域对应设置。本实用新型通过传送带下方设置多级吸附单元，能够防止硅片传送过程中位置出现偏移，同时防止在清理液滴的过程中，加热清除机构的热风冲力作用于硅片上时硅片位置出现偏移。
本实用新型一种基于多级吸附传输的硅片液滴清除装置在权利要求书中公布了：1.一种基于多级吸附传输的硅片液滴清除装置，其特征在于，包括：吸附传动机构，包括传送带、设于其下方的吸附单元以及抽气单元；所述传送带用于传输硅片，且所述传送带上设有若干吸附孔；所述吸附单元包括吸附腔室和其顶部从下至上依次设置的至少两级吸附台面，且每级吸附台面上均设有若干通孔，各通孔与所述吸附腔室、吸附孔连通；所述吸附腔室与抽气单元连通；加热清除机构，设于所述吸附传动机构的上方，与所述传送带上硅片的液滴清除区域对应设置。
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