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龙图腾网恭喜无锡邑文微电子科技股份有限公司;江苏邑文微电子科技有限公司申请的专利刻蚀设备及其控压方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119517721B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510088919.9，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权刻蚀设备及其控压方法是由王显亮;林洋洋;杨文宾设计研发完成，并于2025-01-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本刻蚀设备及其控压方法在说明书摘要公布了：本发明涉及半导体技术领域，公开一种刻蚀设备及其控压方法。其中刻蚀设备的刻蚀主体内形成刻蚀腔体；控压单元包括上控压环和下控压环，刻蚀主体上设置有限位件，上控压环置于限位件或置于下控压环的上表面；驱动单元的驱动件用于驱动下控压环沿上下方向移动；控制单元包括检测组件，当检测组件检测到刻蚀腔体内压力为第一预设压力时，驱动件能驱动下控压环以第一预设速度移动；当检测组件检测到刻蚀腔体内压力为第二预设压力时，驱动件能驱动下控压环以第二预设速度移动，以使刻蚀腔体内气压动态稳定保持工作压力，第一预设速度大于第二预设速度。本发明根据刻蚀腔体内实时压力值控制控压单元的移动速度，控压效果更好。

本发明授权刻蚀设备及其控压方法在权利要求书中公布了：1.刻蚀设备，其特征在于，包括：刻蚀主体110，其内形成刻蚀腔体111，所述刻蚀主体110的开口端设置有上硅环120；控压单元200，包括上控压环210和下控压环220，所述刻蚀主体110上设置有限位件，所述上控压环210置于所述限位件或置于所述下控压环220的上表面，所述上控压环210和所述上硅环120之间、所述上控压环210和所述下控压环220之间、所述下控压环220与所述刻蚀主体110之间，至少一处形成有气体通道，限位件设置为限位孔113，上控压环210包括穿孔部211和限位翻边212，其中穿孔部211穿设于限位孔113内，限位翻边212能与限位孔113的端部选择性抵接；驱动单元300，包括驱动件，所述驱动件用于驱动所述下控压环220沿上下方向移动，对所述气体通道进行动态调节；控制单元，包括检测组件，所述驱动件与所述检测组件通讯连接，当所述检测组件检测到所述刻蚀腔体111内压力为第一预设压力时，所述驱动件能驱动所述下控压环220以第一预设速度移动；当所述检测组件检测到所述刻蚀腔体111内压力为第二预设压力时，所述驱动件能驱动所述下控压环220以第二预设速度移动，以使所述刻蚀腔体111内气压动态稳定保持工作压力，所述第一预设速度大于所述第二预设速度。

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