恭喜东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司张生睿获国家专利权
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龙图腾网恭喜东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司申请的专利仿真坏点的修正方法、神经网络训练方法及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117391040B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311277940.0，技术领域涉及：G06F30/398；该发明授权仿真坏点的修正方法、神经网络训练方法及存储介质是由张生睿;俞宗强;施伟杰设计研发完成，并于2023-09-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本仿真坏点的修正方法、神经网络训练方法及存储介质在说明书摘要公布了：本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种仿真坏点的修正方法、神经网络训练方法及存储介质，本发明的仿真坏点的修正方法包括以下步骤：提供一掩模版图，获取该掩模版图中的仿真坏点及对应位置；获取该掩模版图对应的设计版图，获取并修正设计版图中对应的仿真坏点处图形，得到修正后的新设计版图；对新设计版图做光学临近修正得到新掩模数据；基于新掩模数据针对仿真坏点位置做光刻仿真验证，若仍存在仿真坏点，则持续修正设计版图仿真坏点处图形，直到仿真坏点完全修复；若无仿真坏点，则坏点已解决，输出最终设计版图。从设计版图入手对仿真坏点位置进行修正，更全面高效地解决了仿真坏点的问题。
本发明授权仿真坏点的修正方法、神经网络训练方法及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种仿真坏点的修正方法，其特征在于：包括以下步骤：提供一掩模版图，获取该掩模版图中的仿真坏点及对应位置；获取该掩模版图对应的设计版图，获取并修正设计版图中对应的仿真坏点处图形，得到修正后的新设计版图，其中，修正设计版图中对应的仿真坏点包括：基于仿真坏点位置获取预设优化区域，对仿真坏点进行局部掩模优化，若还存在仿真坏点，则再对仿真坏点进行局部设计版图修正；对新设计版图做光学临近修正得到新掩模数据；基于新掩模数据针对仿真坏点位置做光刻仿真验证，若仍存在仿真坏点，则持续修正设计版图仿真坏点处图形，直到仿真坏点完全修复；若无仿真坏点，则坏点已解决，输出最终设计版图。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司，其通讯地址为：100176 北京市大兴区北京经济技术开发区经海四路156号院12号楼；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
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