恭喜松山湖材料实验室;杭州交子茶业有限公司刘开辉获国家专利权
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龙图腾网恭喜松山湖材料实验室;杭州交子茶业有限公司申请的专利平面振膜组件及其制备方法以及平面振膜扬声器获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115190399B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-06发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210801644.5,技术领域涉及:H04R7/10;该发明授权平面振膜组件及其制备方法以及平面振膜扬声器是由刘开辉;张志强;尚俊峰;陈镔;刘科海;杨方友;林智君;张超;王恩哥设计研发完成,并于2022-07-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本平面振膜组件及其制备方法以及平面振膜扬声器在说明书摘要公布了:本发明提供了一种平面振膜组件的制备方法,包括以下步骤:在平面振膜本体的其中一表面上形成金属层,其中,所述平面振膜本体的厚度为0.5μm~6μm,所述金属层的厚度为1nm~20nm;通过静电喷雾的方式在所述金属层上形成氧化石墨烯线路;蚀刻所述金属层,使所述金属层形成金属线路;以及将所述氧化石墨烯线路还原为还原氧化石墨烯线路,得到音圈线路,其中,所述还原氧化石墨烯线路的厚度小于50nm。本发明解决了现有加工音圈线路工艺中的“超薄厚度和电导率性能”不能同时提升的矛盾。本发明还提供了一种平面振膜组件以及一种平面振膜扬声器。
本发明授权平面振膜组件及其制备方法以及平面振膜扬声器在权利要求书中公布了:1.一种平面振膜组件的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:在平面振膜本体的其中一表面上形成金属层,其中,所述平面振膜本体的厚度为0.5μm~6μm,所述金属层的厚度为1nm~20nm;通过静电喷雾的方式在所述金属层上形成氧化石墨烯线路;蚀刻所述金属层,使所述金属层形成金属线路;以及将所述氧化石墨烯线路还原为还原氧化石墨烯线路,得到音圈线路,其中,所述还原氧化石墨烯线路的厚度小于50nm。
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