买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网恭喜中国核电工程有限公司申请的专利一种托卡马克磁约束聚变电站的氚工厂布置结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115171919B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210640176.8，技术领域涉及：G21B1/05；该发明授权一种托卡马克磁约束聚变电站的氚工厂布置结构是由贝晨;谷振杰;王振中;薛静;吴巧英;贾小攀;褚松良;赵晓山;苏锦成;樊彦芳设计研发完成，并于2022-06-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种托卡马克磁约束聚变电站的氚工厂布置结构在说明书摘要公布了：本发明涉及一种托卡马克磁约束聚变电站的氚工厂布置结构，属于核工程厂房布局技术领域，按功能划分所述氚工厂包括机械贯穿区、内燃料循环系统设备区、外燃料循环系统设备区、水去氚化系统设备区、通风除氚系统设备区、综合布置区、楼梯电梯区、设备吊装区和通行区，将氚浓度高的功能区布置在氚工厂内侧，将氚浓度低的功能区布置在外侧。本发明提供氚工厂布置结构简单，布局合理，不仅提高辐射防护效果，满足商用核电站的需求，还可提高核电站的空间利用率。

本发明授权一种托卡马克磁约束聚变电站的氚工厂布置结构在权利要求书中公布了：1.一种托卡马克磁约束聚变电站的氚工厂布置结构，其特征在于，所述氚工厂的上方紧邻托卡马克主机厂房，右侧紧邻热室；按功能划分，所述氚工厂包括机械贯穿区（1）、内燃料循环系统设备区（2）、外燃料循环系统设备区（3）、水去氚化系统设备区（4）、通风除氚系统设备区（5）、综合布置区（6）、楼梯电梯区（7）、设备吊装区（8）和通行区（9）；所述机械贯穿区（1）是所述氚工厂与主机厂房的接口区域，位于靠近主机厂房的一侧，其内布置有内燃料循环系统、外燃料循环系统和装卸料系统的放射性机械贯穿件；所述内燃料循环系统设备区（2）位于靠近主机厂房一侧，并与所述机械贯穿区（1）的左侧和下侧相邻，主要用于布置内燃料循环系统相关物项，所述内燃料循环系统设备区（2）内布置有托卡马克等离子体排灰气处理系统、内循环氢同位素分离系统、燃料储存与供给系统及分析系统相关物项；所述外燃料循环系统设备区（3）位于所述氚工厂的中心，并与所述内燃料循环系统设备区（2）、所述水去氚化设备区（4）和所述通风除氚设备区（5）相邻，主要用于布置外燃料循环系统相关物项，所述外燃料循环系统的主要任务是提取和回收包层中增殖的氚，用于弥补氚的燃耗、衰变和非放射性损失，从而实现氚燃料自持；所述外燃料循环系统设备区（3）内布置有包层氚提取系统、氦冷却剂净化系统、水冷却剂净化系统及外循环氢同位素分离系统相关物项；基于辐射防护需求，氚浓度高的功能区布置在所述氚工厂内侧，氚浓度低的功能区布置在所述氚工厂外侧；所述氚工厂具有地下三层和地上四层，地下三层主要布置WCPS水冷却剂净化系统、WDS水去氚化系统和综合管廊，WCPS位于外燃料循环系统设备区3内靠近内燃料循环系统设备区2的下侧，WDS位于水去氚化系统设备区4内；地下二层主要布置HCPS氦冷却剂净化系统、WDS水去氚化系统、WCPS水冷却剂净化系统、TEP等离子体排灰气处理系统、ANS分析系统；HCPS位于外燃料循环系统设备区3紧邻内燃料循环系统设备区2的下侧，TEP位于外燃料循环系统设备区3紧邻热室的一侧，ANS位于内燃料循环系统设备区2靠近TEP的一侧，WDS位于水去氚化系统设备区4内，WCPS位于通风除氚系统设备区5内；地下一层主要布置HCPS氦冷却剂净化系统、WCPS水冷却剂净化系统、TEP等离子体排灰气处理系统、ANS分析系统、GDS手套箱气氛除氚系统和ACS中央控制系统；HCPS、WCPS、TEP、ANS的位置和地下二层保持一致，GDS布置在综合布置区6内靠近手套箱系统；ACS布置在水去氚化系统设备区4内；地上一层主要布置WDS水去氚化系统、WCPS水冷却剂净化系统、ISS-I氢同位素分离系统、ISS-O外循环氢同位素分离系统、SDS燃料贮存与供给系统和GDS手套箱气氛除氚系统；WDS位于水去氚化系统设备区4内，WCPS、GDS的位置和地下一层保持一致；SDS位于内燃料循环系统设备区2紧邻机械贯穿区1的下侧，ISS-I位于外燃料循环系统设备区3紧邻热室的一侧，ISS-O位于外燃料循环系统设备区3紧邻SDS的下侧；地上二层主要布置ISS-I氢同位素分离系统、ISS-O外循环氢同位素分离系统、WDS水去氚化系统、WCPS水冷却剂净化系统和LTS氚长期贮存系统，ISS-I、ISS-O、WDS的位置和地上一层保持一致，LTS位于内燃料循环系统设备区2靠近ISS-I、ISS-O的位置，WCPS位于通风除氚系统设备区5内靠近WDS的一侧；地上三层主要布置TES包层氚提取系统、ISS-I氢同位素分离系统、ISS-O外循环氢同位素分离系统、WDS水去氚化系统、WCPS水冷却剂净化系统、VDS排放气体除氚系统和ADS空气气氛除氚系统；TES布置在机械贯穿区1和内燃料循环系统设备区2，ISS-I、ISS-O、WCPS的位置和地上二层保持一致，WDS位于水去氚化系统设备区4内靠近ISS-I的一端，ADS位于水去氚化系统设备区4内的另一端，VDS位于通风除氚系统设备区5内靠近设备吊装区8的一侧；地上四层主要布置ISS-I氢同位素分离系统、ISS-O外循环氢同位素分离系统、WCPS水冷却剂净化系统和VDS排放气体除氚系统，ISS-I、ISS-O、WCPS、VDS的位置和地上三层保持一致。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人中国核电工程有限公司，其通讯地址为：100840 北京市海淀区西三环北路117号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。