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龙图腾网恭喜中国科学院化学研究所申请的专利一种可光固化硅基陶瓷前驱体及其制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116947489B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210412732.6，技术领域涉及：C08G77/00；该发明授权一种可光固化硅基陶瓷前驱体及其制备方法与应用是由李永明;潘振雪;徐彩虹;张宗波;罗永明设计研发完成，并于2022-04-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种可光固化硅基陶瓷前驱体及其制备方法与应用在说明书摘要公布了：本发明属于光固化材料、硅基陶瓷前驱体及硅基陶瓷技术领域，具体涉及一种可光固化硅基陶瓷前驱体及其制备方法与应用。本发明提供的可光固化硅基陶瓷前驱体能够作为硅基陶瓷前驱体树脂，且固化物的陶瓷化产率高，在制备树脂薄膜涂层、有机无机杂化材料薄膜涂层、陶瓷薄膜涂层、陶瓷纤维、陶瓷基复合材料、3D打印制备陶瓷制件等领域显示出巨大应用前景。

本发明授权一种可光固化硅基陶瓷前驱体及其制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种可光固化硅基陶瓷前驱体，其特征在于，具有如式M所示的链段结构： 式M；其中，所述R，R’相同或不同，彼此独立地选自H、无取代，或任选被一个，两个或多个Ra取代的如下基团：C1-6烷基或C1-6烷氧基；Ra选自羟基，卤素，氨基或C1-6烷基；Y相同或不同，彼此独立地选自无取代，或任选被一个，两个或多个Rb取代的如下基团：C2-6烯基或C2-6炔基；Rb选自羟基，卤素，氨基或C1-6烷基；X相同或不同，彼此独立地选自光敏反应基团Rg，所述光敏反应基团Rg为在光照和光引发剂存在的条件下，发生聚合反应的基团；所述光敏反应基团Rg为丙烯酸酯基、乙烯基醚基或环氧基；所述丙烯酸酯基选自-A-OOC-CR1=CH2，其中，A选自不存在或-OCH2a-，当A不存在时，-OOC-CR1=CH2的-OOC-中O与Si相连，当存在时，-OCH2a-中O与Si相连，a为1-6的整数，R1选自H、C1-6烷基；所述乙烯基醚基选自式（2）所示基团：-O-CH2m1-O-CH2m2-CR2=CHR3式（2）其中，m1为1-6的整数，m2为0-6的整数，R2选自H、甲基或乙基，R3选自H或C1-6烷基；所述环氧基选自-OCH2n1-R4，其中，n1为1-6的整数，R4选自取代或未取代的C2-12环氧烷基、取代或未取代的环氧C3-12环烷基，取代时取代基为C1-6烷基；x=0.01~0.9，y=0.1~0.9，z=0.1~0.9，x+y+z=0.01~0.9。

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