恭喜江苏启微半导体设备有限公司;至微半导体(上海)有限公司陈丁堃获国家专利权
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龙图腾网恭喜江苏启微半导体设备有限公司;至微半导体(上海)有限公司申请的专利一种单片式晶圆清洗装置及其整体洁净度的控制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114420540B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111677803.7，技术领域涉及：H01L21/02；该发明授权一种单片式晶圆清洗装置及其整体洁净度的控制方法是由陈丁堃;邓信甫;丁立设计研发完成，并于2021-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种单片式晶圆清洗装置及其整体洁净度的控制方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种单片式晶圆清洗工艺中整体洁净度的控制方法，气体喷流管道向所述晶圆平台提供旋转喷流纯净气体的过程包括：以增压、减压、增压循环的方式向所述晶圆平台提供旋转喷流的纯净气体；或和以靠近、远离、靠近循环的方式向所述晶圆平台提供旋转喷流的纯净气体；或和以热风、冷风、热风循环的方式向所述晶圆平台提供旋转喷流的纯净气体。本发明中单片式晶圆清洗工艺中整体洁净度的控制方法能够选择以增压、减压、增压循环，靠近、远离、靠近循环或是热风、冷风、热风循环中的至少一种方式对晶圆的表面以及晶圆平台进行整体式清洗，从而控制单片式晶圆清洗工艺中的整体洁净度；超临界液态二氧化碳流体可以进一步地溶解残留的有机物。
本发明授权一种单片式晶圆清洗装置及其整体洁净度的控制方法在权利要求书中公布了：1.一种单片式晶圆清洗工艺中整体洁净度的控制方法，包括：在所述晶圆的清洗工程中，通过气体喷流管道向所述晶圆平台提供旋转喷流的纯净气体，并通过气体排放管道向所述晶圆平台提供负压，以抽除气体；其特征在于，所述气体喷流管道向所述晶圆平台提供旋转喷流纯净气体的过程包括：以增压、减压、增压循环的方式向所述晶圆平台提供旋转喷流的纯净气体；和以靠近、远离、靠近循环的方式向所述晶圆平台提供旋转喷流的纯净气体；和以热风、冷风、热风循环的方式向所述晶圆平台提供旋转喷流的纯净气体。
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