恭喜广东风华高新科技股份有限公司麦俊获国家专利权
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龙图腾网恭喜广东风华高新科技股份有限公司申请的专利一种薄膜片式电阻器及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114242361B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111473325.8，技术领域涉及：H01C17/065；该发明授权一种薄膜片式电阻器及其制备方法是由麦俊;陆锦松;陈洁峰;杨理强;林瑞芬;练洁兰;莫雪琼;周庆波设计研发完成，并于2021-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种薄膜片式电阻器及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种薄膜片式电阻器及其制备方法，涉及电阻器技术领域。本发明提供的薄膜片式电阻器，包括基板、金刚石衬底、电阻层、金刚石保护层、外保护层、引出电极和端子焊接层，其中，所述电阻层设置于所述金刚石衬底和所述金刚石保护层之间。本发明通过在现有薄膜电阻器的基础上，引入金刚石衬底和金刚石保护层，将电阻层设置于金刚石衬底和金刚石保护层之间，提高片式电阻器中电阻层的散热能力、电阻功率水平，避免出现电化学腐蚀现象。
本发明授权一种薄膜片式电阻器及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种薄膜片式电阻器，其特征在于，包括基板、金刚石衬底、电阻层、金刚石保护层、外保护层、引出电极和端子焊接层，其中，所述电阻层设置于所述金刚石衬底和所述金刚石保护层之间；所述金刚石衬底的厚度为20μm；所述基板的材质为纯度99％的氧化铝陶瓷，所述基板的Ra值为0.2-0.4μm；所述薄膜片式电阻器的制备方法为如下：采用微波等离子体沉积技术制备金刚石衬底，包括如下a-c：a采用CH4H2为气源，CH4和H2的体积比为CH4：H2＝1-9：91-99；b微波功率为10kW-15kW；c气体压强为10-20kPa；采用微波等离子体沉积技术制备金刚石保护层，包括如下d-f：d采用CH4ArH2为气源，CH4、Ar和H2的体积比为CH4：Ar：H2＝1.5-3.5：25-45：52-72；e微波功率为500W-1000W；f气体压强为1-3kPa。
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