恭喜武汉帝尔激光科技股份有限公司阿米尔·诺伊获国家专利权
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龙图腾网恭喜武汉帝尔激光科技股份有限公司申请的专利图案转印片、监测图案转印的方法和图案转印系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115610127B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111034191.X，技术领域涉及：B41M5/00；该发明授权图案转印片、监测图案转印的方法和图案转印系统是由阿米尔·诺伊;本尼·纳韦;埃亚尔·科恩;瓦莱里·索林;多尔·德罗尔设计研发完成，并于2021-09-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本图案转印片、监测图案转印的方法和图案转印系统在说明书摘要公布了：本发明提供了图案转印片、监测图案转印的方法和图案转印系统，用于监测和调节用于将浆料图案从转印片上的沟槽转移到衬底例如电路和或太阳能电池衬底上的激光照射。图案转印片在图案的外部包括i迹线标记，其配置为接收印刷浆料，与沟槽对准并且比照射激光束的宽度宽，以检测从迹线标记内释放的浆料的未对准，和或ii工作窗口标记，其配置为接收印刷浆料，相对于指定沟槽以指定偏移量设置，不同的工作窗口标记以不同的偏移量设置，以通过调节激光束的功率来校正有效工作窗口。
本发明授权图案转印片、监测图案转印的方法和图案转印系统在权利要求书中公布了：1.一种图案转印片，包括：多个沟槽，以指定图案布置，并且配置为接收印刷浆料并在由激光束照射时将所述印刷浆料从所述沟槽释放到接收衬底上，其特征在于，所述图案转印片包括以下中的至少一者：（i）至少一个迹线标记，位于所述指定图案的外部并且配置为接收所述印刷浆料，其中，所述至少一个迹线标记相对于所述多个沟槽中的至少一个沟槽对准，并且比所述激光束的宽度宽；以及（ii）多个工作窗口标记，所述工作窗口标记位于所述指定图案的外部并配置为接收所述印刷浆料，其中，所述工作窗口标记相对于所述指定图案的指定沟槽以指定偏移量设置，并且其中，不同的工作窗口标记以不同的偏移量设置。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人武汉帝尔激光科技股份有限公司，其通讯地址为：430078 湖北省武汉市东湖新技术开发区九龙湖街88号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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