恭喜上海飚辉科技有限公司鲁礼建获国家专利权
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龙图腾网恭喜上海飚辉科技有限公司申请的专利吊顶挂墙式高浓度负离子防止黑墙用屏蔽装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113490404B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110890062.4，技术领域涉及：H05K9/00；该发明授权吊顶挂墙式高浓度负离子防止黑墙用屏蔽装置是由鲁礼建设计研发完成，并于2021-08-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本吊顶挂墙式高浓度负离子防止黑墙用屏蔽装置在说明书摘要公布了：本发明公开了吊顶挂墙式高浓度负离子防止黑墙用屏蔽装置，属于新风净化技术领域。它包括安装主体和负离子装置，还包括保护膜、屏蔽金属圈和导电部；负离子装置设置在安装主体上，保护膜套设在负离子装置上，且保护膜与安装主体紧贴设置，保护膜与安装主体之间呈空气隔绝状态；屏蔽金属圈嵌设在保护膜的内侧壁，且屏蔽金属圈环绕设置在负离子装置上。本发明在负离子发射头周围设置保护膜，使得安装主体与流动的空气隔绝，同时保护膜内的屏蔽金属圈改变了负离子发射头形成的电晕辐射场，在安装主体层面形成一个截断作用，从而最大限度的阻止强电场去聚集空气中的超细颗粒物，防止黑墙现象发生。
本发明授权吊顶挂墙式高浓度负离子防止黑墙用屏蔽装置在权利要求书中公布了：1.吊顶挂墙式高浓度负离子防止黑墙用屏蔽装置，包括安装主体（1）和负离子装置（2），其特征在于：还包括保护膜（3）、屏蔽金属圈（4）和导电部；所述负离子装置（2）设置在安装主体（1）上，所述保护膜（3）套设在负离子装置（2）上，且所述保护膜（3）与安装主体（1）紧贴设置，所述保护膜（3）与安装主体（1）之间呈空气隔绝状态；所述屏蔽金属圈（4）嵌设在保护膜（3）的内侧壁，且所述屏蔽金属圈（4）环绕设置在负离子装置（2）上，所述屏蔽金属圈（4）的最下沿位置高度低于负离子装置（2）的发射头高度；所述屏蔽金属圈（4）与多个导电部连接，多个所述导电部均匀分布在保护膜（3）的外边缘处，用于降低自身的电势电压形成的电晕二次发散效应。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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