恭喜东友精细化工有限公司金炳仁获国家专利权
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龙图腾网恭喜东友精细化工有限公司申请的专利分割曝光掩模、分割曝光方法、曝光图案和触摸传感器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112230506B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010575711.7，技术领域涉及：G03F1/00；该发明授权分割曝光掩模、分割曝光方法、曝光图案和触摸传感器是由金炳仁;张民锡设计研发完成，并于2020-06-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本分割曝光掩模、分割曝光方法、曝光图案和触摸传感器在说明书摘要公布了：提供了一种分割曝光掩模、分割曝光方法、曝光图案和触摸传感器。该分割曝光掩模用于在具有N个分割曝光区域的基板上通过分割曝光形成图案，具有与2至N‑1个分割曝光区域相对应的尺寸，并且被分割为2至N‑1个。
本发明授权分割曝光掩模、分割曝光方法、曝光图案和触摸传感器在权利要求书中公布了：1.一种曝光图案，所述曝光图案具有与具有N个分割曝光区域的基板上的2至N-1个分割曝光区域相对应的尺寸，并且所述曝光图案是通过用被分割成2至N-1个的单个分割曝光掩模进行分割曝光而形成的，其中N为3以上的自然数，如果2至N-1的数量为M，则在满足关系表达式N2M时，所述曝光图案中，除了位于两侧的2M个分割曝光区域之间的边界部分之外，位于中心的其余N+1-2M个边界部分中图案的厚度差或宽度差沿着由边界部分的边界形成的边界线是恒定的或者在变化的同时形成预定形状的轮廓，并且所述预定形状的轮廓在所述N+1-2M个边界部分处重复。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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