恭喜信越化学工业株式会社滨田裕一获国家专利权
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龙图腾网恭喜信越化学工业株式会社申请的专利蒙版框架、蒙版和蒙版框架的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN110347013B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201910257416.4，技术领域涉及：G03F1/64；该发明授权蒙版框架、蒙版和蒙版框架的制备方法是由滨田裕一设计研发完成，并于2019-04-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本蒙版框架、蒙版和蒙版框架的制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及蒙版框架及其制备方法、以及蒙版，所述蒙版框架具备：框架基材、在上述框架基材的表面形成的厚度为2.0~7.5μm的黑色的阳极氧化被膜、和在上述阳极氧化被膜上形成的透明的聚合物电沉积涂膜，所述蒙版具备：该蒙版框架、和在上述蒙版框架的一个端面设置的蒙版膜。
本发明授权蒙版框架、蒙版和蒙版框架的制备方法在权利要求书中公布了：1.蒙版框架，其具备：框架基材、在上述框架基材的表面形成的厚度为2.0μm以上且小于5.0μm的阳极氧化被膜、和在上述阳极氧化被膜上形成的透明的聚合物电沉积涂膜，上述涂膜的可见光透过率超过50％，上述阳极氧化被膜的L值为35以下，L值为将黑体计为0，将相反的白色计为100时表示颜色的亮度的指标，该黑体是指吸收入射至其表面的所有的波长，既不反射也不透过的理想的物体，上述阳极氧化被膜中包含硫酸根离子，上述阳极氧化被膜为硫酸耐酸铝。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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