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龙图腾网恭喜南京航空航天大学申请的专利一种用于复杂辐射场的放射源成像方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119758416B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510260091.0，技术领域涉及：G01T1/00；该发明授权一种用于复杂辐射场的放射源成像方法及系统是由韩璐;张楠;汤晓斌;耿长冉;袁慧敏;马哲设计研发完成，并于2025-03-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于复杂辐射场的放射源成像方法及系统在说明书摘要公布了：本发明涉及辐射探测技术领域，公开了一种用于复杂辐射场的放射源成像方法及系统。放射源成像系统，在反符合探测器的外层设置物理屏蔽层，屏蔽低能量非目标粒子入射到反符合探测器，避免较低能量的待测粒子被反符合探测器屏蔽，而误判的无效信号，增加有效信号数量，从而提升辐射探测效果。物理屏蔽层用于对入射辐射信号进行屏蔽、衰减，随着物理屏蔽层厚度的增加，辐射信号会经历不同程度的衰减，放射源成像方法中的触发阈值和时间窗口的设定，都基于物理屏蔽层的厚度设置，进行动态调整，以确保系统在不同屏蔽层厚度下的稳定性，提升辐射探测精准度。通过电子符合和物理屏蔽共同作用的方式，有效去除非目标干扰，提高辐射探测结果的质量。

本发明授权一种用于复杂辐射场的放射源成像方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种用于复杂辐射场的放射源成像方法，其特征在于，放射源成像方法基于放射源成像系统实现，所述放射源成像系统包括：主探测器（1）、反符合探测器（2）以及物理屏蔽层（3）；所述物理屏蔽层（3）为四面及后侧的侧壁围绕而成具有前侧开口的罩体，物理屏蔽层（3）内为用于放置主探测器（1）、反符合探测器（2）的容腔，物理屏蔽层（3）的前端为开口，使得复杂辐射场中放射源发出的待测粒子能够直接被主探测器（1）探测到；放射源成像方法包括以下步骤：S1：将主探测器和反符合探测器探测到的信号，分别进行信号放大处理，获得主探测器和反符合探测器的放大后信号；S2：将放大后信号分别与触发阈值比较，仅当所述放大后信号都大于触发阈值时，才进行信号整形处理；所述触发阈值根据物理屏蔽层（3）的厚度设置；S3：将主探测器和反符合探测器的放大后信号分别进行信号整形处理，得到主探测器和反符合探测器的整形后信号；S4：基于主探测器和反符合探测器的整形后信号，分别获得对应探测器的信号触发时间，并计算主探测器和反符合探测器的信号触发时间之差；S5：当所述信号触发时间之差不超过预设的时间窗口时，将主探测器和反符合探测器的整形后信号进行成像处理；所述时间窗口根据物理屏蔽层（3）的厚度设置。

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