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龙图腾网恭喜中国测试技术研究院申请的专利一种基于基模高斯光束的双焦光学系统优化方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119738959B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510254153.7，技术领域涉及：G02B27/00；该发明授权一种基于基模高斯光束的双焦光学系统优化方法及系统是由李貌;赵茜;屈婷;蒲妍宇;曾昕;文捷设计研发完成，并于2025-03-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于基模高斯光束的双焦光学系统优化方法及系统在说明书摘要公布了：本发明涉及一种基于基模高斯光束的双焦光学系统优化方法及系统，推导基模高斯光束通过双焦光学系统后的轴上的光强分布公式；并得到基模高斯光束通过双焦光学系统后的轴上的光强分布图；将轴上的光强分布图划分为若干个区间，分别对轴上的光强分布图的轴向上的每个区间取中值，以每个区间的中值作为相应区间的光强值；创建光强矫正模型，并实时测量若干指定点的光强值和计算若干指定点相应的理论光强值，将实时测量若干指定点的光强值和相应的理论光强值输入光强矫正模型进行训练，再将每个区间的中值输入光强矫正模型，输出每个区间中值的矫正值；并基于矫正后的中值与预设标准值的差值对每个区间进行光强补偿处理，提高了光学系统的稳定性。

本发明授权一种基于基模高斯光束的双焦光学系统优化方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种基于基模高斯光束的双焦光学系统优化方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：基于广义惠更斯-菲涅尔衍射积分公式推导波长为λ的基模高斯光束通过由菲涅尔波带片和薄透镜构成的双焦光学系统后的轴上的光强分布公式；S2：基于所述轴上的光强分布公式得到波长为λ的基模高斯光束通过所述由菲涅尔波带片和薄透镜构成的双焦光学系统后的轴上的光强分布图；S3：将所述轴上的光强分布图在所述轴的方向上划分为若干区间，所述若干区间的划分标准为：每个区间左端点对应的光强值与右端点对应的光强值之间的差值为左端点对应的光强的n%；S4：分别对所述轴上的光强分布图的轴向上的每个区间取中值，并将每个区间映射为每个区间的中值，以每个区间的中值作为相应区间的光强值；S5：创建光强矫正模型，并实时测量若干指定点的光强值，并基于步骤S1中的轴上的光强分布公式，计算所述若干指定点相应的理论光强值，并将实时测量若干指定点的光强值和相应的理论光强值输入所述光强矫正模型进行训练，再将每个区间的中值输入所述光强矫正模型，输出每个区间中值的矫正值；S6：计算每个区间矫正后的中值与预设标准值之间的差值，并基于每个区间矫正后的中值与预设标准值之间的差值对每个区间进行光强补偿处理。

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