恭喜武汉精测电子集团股份有限公司;武汉精立电子技术有限公司冯晓帆获国家专利权
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龙图腾网恭喜武汉精测电子集团股份有限公司;武汉精立电子技术有限公司申请的专利光阑及光谱共焦测量装置获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN222850762U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-09发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202421980597.6,技术领域涉及:G02B5/00;该实用新型光阑及光谱共焦测量装置是由冯晓帆;邓俊涛;邓忠光;周家成;余安澜;郑增强设计研发完成,并于2024-08-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本光阑及光谱共焦测量装置在说明书摘要公布了:本申请属于光学元件及三维测量领域,具体公开了一种光阑及光谱共焦测量装置,光阑应用于光谱共焦测量装置,应用于光谱共焦测量装置,所述光谱共焦测量装置中不同波长的光束被聚焦在不同的高度,其特征在于,所述光阑包括:遮光件和本体件;所述本体件,其内部设有通光通道;所述遮光件,设置于所述本体件内部且与所述通光通道同轴设置,能够使通过所述光阑的光束中的至少部分因所述遮光件的遮挡而无法通过所述通光通道。通过本申请,提升了光谱共焦测量装置提取的待测物上反射光谱信号的信噪比,有效解决传统三维测量系统信噪比低和成像精度有限的问题。
本实用新型光阑及光谱共焦测量装置在权利要求书中公布了:1.一种光阑,应用于光谱共焦测量装置,所述光谱共焦测量装置中不同波长的光束被聚焦在不同的高度,其特征在于,所述光阑包括:遮光件和本体件;所述本体件,其内部设有通光通道;所述遮光件,设置于所述本体件内部且与所述通光通道同轴设置,能够使通过所述光阑的光束中的至少部分因所述遮光件的遮挡而无法通过所述通光通道。
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