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龙图腾网获悉深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司申请的专利一种硅片镀膜载具清洗设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222872907U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-16发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421351113.1，技术领域涉及：B08B7/00；该实用新型一种硅片镀膜载具清洗设备是由李学文;刘兵吉;许林华;侯岳明设计研发完成，并于2024-06-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种硅片镀膜载具清洗设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种硅片镀膜载具清洗设备，包括内部设置有反应腔室的清洗设备本体、第一清洗系统、第二清洗系统和抽气机构，第一清洗系统包括第一连通口、第一排气口和第一等离子体发生器；第二清洗系统包括第二连通口、第二排气口和第二等离子体发生器；其中，启动第一清洗系统进行清洗时，抽气机构单独通过第一排气口抽取反应腔室内部的气体；启动第二清洗系统进行清洗时，抽气机构单独通过第二排气口抽取反应腔室内部的气体。通过采用上述的结构，使得等离子体能够沿着相反的方向流动并反复对硅片镀膜载具清洗，有效解决了现有的硅片镀膜载具干法清洗设备在清洗过程中局部清洗不均匀、死角清洗不到位的技术问题。

本实用新型一种硅片镀膜载具清洗设备在权利要求书中公布了：1.一种硅片镀膜载具清洗设备，其特征在于，包括：清洗设备本体，所述清洗设备本体内部设置有用于洗清硅片镀膜载具的反应腔室，所述反应腔室具有第一端和第二端，第一清洗系统，所述第一清洗系统包括第一连通口、第一排气口和第一等离子体发生器，所述第一连通口和所述第一排气口一一对应设置于所述反应腔室的所述第一端和所述第二端，所述第一等离子体发生器位于所述反应腔室外部，所述第一等离子体发生器具有第一进气口和第一出气口，所述第一出气口与所述第一连通口相连通，所述第一连通口和所述第一排气口其中之一设置于所述反应腔室的上侧，另外一个设置于所述反应腔室的下侧；第二清洗系统，所述第二清洗系统包括第二连通口、第二排气口和第二等离子体发生器，所述第二连通口和所述第二排气口一一对应设置于所述反应腔室的所述第二端和所述第一端，所述第二等离子体发生器位于所述反应腔室外部，所述第二等离子体发生器具有第二进气口和第二出气口，所述第二出气口与所述第二连通口相连通，所述第二连通口和所述第二排气口其中之一设置于所述反应腔室的上侧，另外一个设置于所述反应腔室的下侧；抽气机构，所述抽气机构与所述第一排气口、所述第二排气口相连通；其中，启动所述第一清洗系统对硅片镀膜载具进行清洗时，所述抽气机构单独通过所述第一排气口抽取所述反应腔室内部的气体；启动所述第二清洗系统对硅片镀膜载具进行清洗时，所述抽气机构单独通过所述第二排气口抽取所述反应腔室内部的气体。

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