浙江中晶科技股份有限公司蒋委达获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江中晶科技股份有限公司申请的专利一种硅片参考面定向测试工装获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222882605U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-16发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421286578.3，技术领域涉及：G01N23/20025；该实用新型一种硅片参考面定向测试工装是由蒋委达;何国君;钟君;吴绍明设计研发完成，并于2024-06-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种硅片参考面定向测试工装在说明书摘要公布了：本实用新型提供了一种硅片参考面定向测试工装，包括：承载台，其顶面承载硅片，所述承载台可升降设置；挡板，抵接于所述承载台一侧，其中部纵向开设有允许激光通过的狭缝，所述狭缝的两侧设有导光斜面，所述挡板靠近所述承载台的一侧设有用于定位所述硅片的定位面。通过在承载台的一侧设置挡板，配合挡板上设置的狭缝以及狭缝两侧的定位面，实现测量具有切平面的多厚度单晶硅片，解决现有技术无法定位开设Flat参考面的单晶硅片的问题。
本实用新型一种硅片参考面定向测试工装在权利要求书中公布了：1.一种硅片参考面定向测试工装，其特征在于，包括：承载台，其顶面承载硅片，所述承载台可升降设置；挡板，抵接于所述承载台一侧，其中部纵向开设有允许激光通过的狭缝，所述狭缝的两侧设有导光斜面，所述挡板靠近所述承载台的一侧设有用于定位所述硅片的定位面。
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