恭喜拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司黄明策获国家专利权
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龙图腾网恭喜拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司申请的专利喷淋装置、反应腔室及薄膜沉积设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222886757U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-20发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421941618.3，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型喷淋装置、反应腔室及薄膜沉积设备是由黄明策;野沢俊久设计研发完成，并于2024-08-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本喷淋装置、反应腔室及薄膜沉积设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种喷淋装置、反应腔室及薄膜沉积设备，反应腔室包括腔体、喷淋装置和形变检测装置，喷淋装置和形变检测装置设于腔体内，该喷淋装置包括喷淋板、喷淋上板和至少一组形变补偿组件，喷淋上板设于喷淋板的上方，形变补偿组件包括驱动部和形变支撑部，驱动部设于喷淋上板的上方，驱动部通过形变支撑部穿过喷淋上板与下方的喷淋板的边缘连接，形变检测装置检测喷淋板的中心与边缘的水平差，当喷淋板的边缘与中心存在水平差，通过驱动部驱动形变支撑部可维持地向上拉动和或向下抵压喷淋板的边缘，使得喷淋板的边缘产生蠕性变形，补偿喷淋板的边缘与中心的水平差，在工艺状态时保证喷淋板与加热盘之间合适的极间距，提高膜厚的均匀性。
本实用新型喷淋装置、反应腔室及薄膜沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种喷淋装置，其特征在于，包括：喷淋板；喷淋上板，设于所述喷淋板的上方；至少一组形变补偿组件，包括驱动部和形变支撑部，所述驱动部设于所述喷淋上板的上方，所述形变支撑部的一端与所述驱动部连接，所述形变支撑部的另一端穿过所述喷淋上板与所述喷淋板的边缘连接；其中，所述驱动部用于驱动所述形变支撑部可维持地向上拉动和或向下抵压所述喷淋板的边缘。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司，其通讯地址为：110171 辽宁省沈阳市浑南区水家900号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
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