恭喜盛美半导体设备(上海)股份有限公司余齐兴获国家专利权
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龙图腾网恭喜盛美半导体设备(上海)股份有限公司申请的专利离子交换膜固定装置及电镀装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112921381B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201911242550.3，技术领域涉及：C25D17/00；该发明授权离子交换膜固定装置及电镀装置是由余齐兴;杨宏超;金一诺;陆陈华;王坚;王晖设计研发完成，并于2019-12-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本离子交换膜固定装置及电镀装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种离子交换膜固定装置及电镀装置，离子交换膜固定装置包括：离子膜骨架，其上形成有凹槽结构；第一垫片，设置于凹槽结构底部；第二垫片，设置于凹槽结构中且位于第一垫片上方；离子交换膜包括待固定区域，待固定区域至少位于第一垫片与第二垫片之间，第一垫片、第二垫片及离子交换膜的厚度之和等于凹槽结构的深度；至少一个固定组件，至少设置于离子膜骨架上，以将离子交换膜固定在离子膜骨架上。本发明的离子交换膜固定装置，设置凹槽结构的深度等于第一垫片、第二垫片以及离子交换膜的厚度之和，可以有效地将所述离子交换膜固定，减小离子交换膜由于固定发生损坏的问题。
本发明授权离子交换膜固定装置及电镀装置在权利要求书中公布了：1.一种离子交换膜固定装置，适于固定离子交换膜，其特征在于，所述离子交换膜固定装置包括：离子膜骨架，所述离子膜骨架上形成有凹槽结构；第一垫片，设置于所述凹槽结构的底部；第二垫片，设置于所述凹槽结构中且位于所述第一垫片上方；其中，所述离子交换膜包括待固定区域，所述待固定区域至少位于所述第一垫片与所述第二垫片之间，且所述第一垫片、所述第二垫片以及所述离子交换膜的厚度之和等于所述凹槽结构的深度；以及至少一个固定组件，所述固定组件至少设置于所述离子膜骨架上以将所述离子交换膜固定在所述离子膜骨架上。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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