沐曦科技(成都)有限公司刘凯峰获国家专利权
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龙图腾网获悉沐曦科技(成都)有限公司申请的专利豁免文件生成方法、芯片检查方法、装置及电子设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN117744579B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-27发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202311681511.X,技术领域涉及:G06F30/398;该发明授权豁免文件生成方法、芯片检查方法、装置及电子设备是由刘凯峰设计研发完成,并于2023-12-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本豁免文件生成方法、芯片检查方法、装置及电子设备在说明书摘要公布了:本申请提供一种豁免文件生成方法、芯片检查方法、装置及电子设备,涉及计算机的技术领域。豁免文件生成方法,包括:获取底层模块对应的豁免文件和第一位置信息,所述第一位置信息表征所述底层模块在芯片中的位置;在所述豁免文件加入所述第一位置信息,得到目标豁免文件。通过在豁免文件中加入表征底层模块在芯片中的位置的第一位置信息,从而可以通过第一位置信息限定该豁免文件生效的范围,从而不会出现将其他底层模块中出现的异常豁免的情况。因此,可以将该目标豁免文件应用于检查芯片是否违反了电路设计规则中,从而无需工作人员还需要再次确认芯片的底层模块的异常是否能够豁免。
本发明授权豁免文件生成方法、芯片检查方法、装置及电子设备在权利要求书中公布了:1.一种豁免文件生成方法,其特征在于,包括:获取底层模块对应的豁免文件和第一位置信息,所述第一位置信息表征所述底层模块在芯片中的位置;通过所述第一位置信息限定所述豁免文件生效的范围;在所述豁免文件加入所述第一位置信息,得到目标豁免文件;其中,所述豁免文件还包括豁免信息;所述豁免文件的至少部分所述豁免信息中包括第二位置信息,所述第二位置信息表征所述豁免信息在所述底层模块中生效的位置;得到的所述目标豁免文件中包括所述豁免文件的第二目标豁免信息;所述第二目标豁免信息为不包括所述第二位置信息的豁免信息,且所述目标豁免文件中的第二目标豁免信息中未加入所述第一位置信息,在得到目标豁免文件之后,所述方法还包括:针对所述目标豁免文件中的每一条所述第二目标豁免信息:确认该第二目标豁免信息用于豁免的异常,是否对每一个底层模块都不会产生不良影响;若该第二目标豁免信息会对其中至少一个底层模块产生不良影响,则删除所述目标豁免文件中的该第二目标豁免信息。
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