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龙图腾网恭喜北京屹唐半导体科技股份有限公司申请的专利反应腔室及晶圆刻蚀装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115799035B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211669615.4，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权反应腔室及晶圆刻蚀装置是由管长乐;张新云;范强设计研发完成，并于2022-12-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本反应腔室及晶圆刻蚀装置在说明书摘要公布了：本公开提供了一种反应腔室及晶圆刻蚀装置。反应腔室包括腔体、第一支撑部和抽气部。腔体包括沿竖直方向相对设置的顶板和底板，顶板设置进气口，底板设置抽气口，进气口与抽气口之间设置有载片台，腔体的内壁与载片台之间形成抽气区域。第一支撑部设置于腔体的内壁与载片台之间。抽气部包括阀板和阀芯，阀板设置于腔体的内部且与阀芯的第一端连接，阀芯的第二端可升降地插设于抽气口中，在阀芯位于第一工作位置时，阀板与底板之间形成第一环空，阀芯与抽气口之间形成第二环空。第一环空、第二环空以及抽气区域同轴设置。根据本公开的方案，可使载片台周围空间中的气体通过均匀的气流场抽吸至抽气口，保证晶圆刻蚀工艺结果的均匀性。

本发明授权反应腔室及晶圆刻蚀装置在权利要求书中公布了：1.一种反应腔室，应用于晶圆刻蚀装置，其特征在于，包括：腔体，包括沿竖直方向相对设置的顶板和底板，所述顶板设置有进气口，所述底板设置有抽气口，所述进气口与所述抽气口之间设置有载片台，所述腔体的内壁与所述载片台之间形成有抽气区域；第一支撑部，设置于所述腔体的内壁与所述载片台之间；抽气部，包括阀板和阀芯，所述阀板设置于所述腔体的内部且与所述阀芯的第一端连接，所述阀芯的第二端可升降地插设于所述抽气口中，在所述阀芯位于第一工作位置时，所述阀板与所述底板之间形成第一环空；所述阀芯与所述抽气口之间形成第二环空；其中，所述第一环空、所述第二环空以及所述抽气区域同轴设置；随着所述阀板的上升运动，所述阀板逐渐远离所述底板，所述第一环空的体积逐渐增大，使得能够通过所述第一环空的工艺气体的气体流量变大；随着所述阀板的下降运动，所述阀板逐渐靠近所述底板，所述第一环空的体积逐渐减小，使得能够通过所述第一环空的工艺气体的气体流量变小；在所述阀芯位于第二工作位置时，所述阀板与所述底板接触，将所述抽气口闭合；所述反应腔室，还包括：密封圈，设置于所述抽气口，在所述阀芯位于第二工作位置时，所述阀板与所述密封圈接触。

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