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龙图腾网恭喜刘文钦申请的专利一种闭合盖的制备装置及制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113290925B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110682236.8，技术领域涉及：B30B15/02；该发明授权一种闭合盖的制备装置及制备方法是由刘文钦设计研发完成，并于2021-06-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种闭合盖的制备装置及制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种闭合盖的制备装置及制备方法，其中闭合盖的制备装置，包括：母模，其设有凹槽；公模，其具有与成型后的闭合盖相匹配的立体表面，并在该表面伸出一用于导引、校正和定型的凸柱，所述闭合盖未成型时是一平面半成品，所述平面半成品设有一贯穿的孔口；成型时，所述平面半成品覆盖在所述凹槽上，所述凸柱插入所述孔口并往凹槽压入，导引所述平面半成品往凹槽收缩弯曲，并在凹槽的限位下，自动校正所述平面半成品匹配公模表面的形状；在公模压入母模停止在固定位置后，将平面半成品成型成立体的闭合盖。本发明制备装置的制备效率高，且制备的闭合盖精密度比较准确。

本发明授权一种闭合盖的制备装置及制备方法在权利要求书中公布了：1.一种闭合盖的制备方法，其特征在于，其是用闭合盖的制备装置进行制备的，所述闭合盖的制备装置包括：母模，其设有凹槽；所述凹槽的边缘设有向下的台阶；所述凹槽为柱体凹槽；在凹槽边缘的四周设有限位柱；公模，其具有与成型后的闭合盖相匹配的立体表面，并在该立体表面伸出一用于导引、校正和定型的凸柱，所述凸柱为下窄上宽的锥形，所述凸柱最宽时的横截面形状、大小与成型后的闭合盖的孔口的形状、大小相匹配；所述闭合盖未成型时是一平面半成品，所述平面半成品设有一贯穿的孔口；所述制备方法包括如下步骤：S1.平面半成品覆盖在所述凹槽上；S2.所述凸柱插入所述孔口并往凹槽压入，导引所述平面半成品往凹槽收缩弯曲，并在凹槽的限位下，自动校正所述平面半成品匹配公模立体表面的形状；S3.在公模压入母模停止在固定位置后，将平面半成品成型成立体的闭合盖。

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