恭喜三星SDI株式会社白载烈获国家专利权
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龙图腾网恭喜三星SDI株式会社申请的专利抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成图案的方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113204170B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-27发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110115902.X,技术领域涉及:G03F7/004;该发明授权抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成图案的方法是由白载烈;权纯亨;金旼秀;朴贤;裵信孝;宋大锡;崔有廷设计研发完成,并于2021-01-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成图案的方法在说明书摘要公布了:本发明公开一种抗蚀剂底层组合物,包含含由化学式1表示的结构单元的聚合物和溶剂,以及一种使用抗蚀剂底层组合物形成图案的方法。在化学式1中,每一个取代基与详细描述中所定义的相同。[化学式1]
本发明授权抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成图案的方法在权利要求书中公布了:1.一种抗蚀剂底层组合物,包括:包含由化学式3到化学式6表示的结构单元中的一或多个的聚合物;以及溶剂:[化学式3] [化学式4] [化学式5] [化学式6] 其中,在化学式3到化学式6中,*为键联点。
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