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龙图腾网恭喜上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利一种光刻装置及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114721225B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110002833.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种光刻装置及其应用是由田翠侠设计研发完成，并于2021-01-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光刻装置及其应用在说明书摘要公布了：本发明实施例公开了一种光刻装置及其应用。光刻装置包括LED光源，LED光源包括多个LED芯片和透镜，每个LED芯片与对应的透镜共光轴；第一类LED芯片的中心位于以中央LED芯片的中心为圆心的第一圆周上，第二类LED芯片的中心位于以中央LED芯片的中心为圆心的第二圆周上，且第一圆周的半径小于第二圆周的半径。本发明实施例的技术方案，可以实现在9.4mm×9.4mm的受光面内，平均能量达到14Wcm2以上，且数值孔径NA0.22，具有高照度、长寿命、节能环保等优点，可以有效提高边缘曝光精度和产率。

本发明授权一种光刻装置及其应用在权利要求书中公布了：1.一种光刻装置，其特征在于，包括LED光源，所述LED光源包括多个LED芯片和与所述LED芯片一一对应的透镜，每个所述LED芯片与对应的所述透镜共光轴；多个所述LED芯片包括中央LED芯片、第一类LED芯片和第二类LED芯片，所述第一类LED芯片的中心位于以所述中央LED芯片的中心为圆心的第一圆周上，所述第二类LED芯片的中心位于以所述中央LED芯片的中心为圆心的第二圆周上，且所述第一圆周的半径小于所述第二圆周的半径；所述第一类LED芯片的出光平面和所述第二类LED芯片的出光平面均与所述中央LED芯片的出光平面呈第一夹角，且所述第一类LED芯片和所述第二类LED芯片以所述中央LED芯片为中心向靠近所述透镜一侧倾斜；所述第一类LED芯片和所述第二类LED芯片交替错位排列，使得所述中央LED芯片的两侧分别为所述第一类LED芯片和所述第二类LED芯片。

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