恭喜上海新阳半导体材料股份有限公司王溯获国家专利权
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龙图腾网恭喜上海新阳半导体材料股份有限公司申请的专利一种厚膜光刻胶组合物，其制备方法及应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114563918B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011360489.5，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权一种厚膜光刻胶组合物，其制备方法及应用是由王溯;耿志月;崔中越;唐晨;薛新斌;王世建;王志勇;黄桂华;李清华设计研发完成，并于2020-11-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种厚膜光刻胶组合物，其制备方法及应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种厚膜光刻胶组合物，其制备方法和应用。本发明的光刻胶组合物，其包括以下组分：树脂、光致产酸剂和溶剂。本发明的光刻胶组合物形成的胶膜具有好的性能，具有好的应用前景。
本发明授权一种厚膜光刻胶组合物，其制备方法及应用在权利要求书中公布了：1.一种光刻胶组合物，其特征在于，包括以下组分：树脂、光致产酸剂和溶剂；所述的树脂通过以下制备方法制得，所述的制备方法包括以下步骤：在过氧苯甲酰的存在下，将如式A所示的单体、如式B所示的单体、如式C所示的单体、如式D所示的单体和如式E所示的单体在乙酸乙酯中进行聚合反应，得到所述的树脂；其中，所述的如式D所示的单体以重量份数计的份数为1-10份，所述的如式E所示的单体以重量份数计的份数为1-10份；所述的聚合反应温度为75-80℃；所述的如式A所示的单体为如下任一化合物： 所述的如式B所示的单体为如下任一化合物： 所述的如式C所示的单体为如下任一化合物： 所述的如式D所示的单体为如下任一化合物： 所述的如式E所示的单体为如下任一化合物： 所述的光致产酸剂为PAG1和或PAG2，其结构如下所示：
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