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龙图腾网恭喜富士胶片株式会社申请的专利感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115349108B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180024024.9，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法是由三好太朗;福崎英治设计研发完成，并于2021-03-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、由上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有A通过酸的作用而极性增加的树脂及B通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物，该化合物由特定的通式表示，其中，上述树脂A包含由特定的通式表示的重复单元。

本发明授权感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其含有：树脂A：通过酸的作用而极性增加；及化合物B；通过光化射线或放射线的照射而产生酸，且由下述通式I表示，所述树脂A包含由下述通式AI表示的重复单元， 通式AI中，RA、RB及RC分别独立地表示氢原子、烷基、环烷基、卤原子、氰基或烷氧基羰基，其中，RC任选地与ArA键合而形成环，此时的RC表示单键或亚烷基，LA表示单键或2价的连接基，ArA表示n+1价的芳香环基，当ArA与RC键合而形成环时，表示n+2价的芳香环基，n表示1～5的整数， 通式I中，M1+及M2+分别独立地表示阳离子，X表示单键或m+1价的连接基，A1-及A2-分别独立地表示阴离子性基团，A1-表示与由A2-表示的酸阴离子基团不同的结构，m表示1或2，当m表示2时，多个M1+相同或不同，当m表示2时，多个A1-相同或不同，其中，由通式I表示的化合物的M1+及M2+分别被氢原子取代的化合物PI具有由HA1表示的基团的酸解离常数a1及由A2H表示的基团的酸解离常数a2，酸解离常数a1低于酸解离常数a2，酸解离常数a1为-1.5以上。

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