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龙图腾网恭喜上海邦芯半导体科技有限公司申请的专利一种进气结构及等离子刻蚀设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111430213B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010379297.2，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权一种进气结构及等离子刻蚀设备是由吴堃;杨猛设计研发完成，并于2020-05-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种进气结构及等离子刻蚀设备在说明书摘要公布了：本发明涉及半导体集成电路制造技术领域，公开了一种进气结构及等离子刻蚀设备。即通过对第一阀门的导通截止控制，能够将并排的多条进气支路可调地分成两部分：一部分排列相邻的进气支路导入分配后的其中一路进气，另一部分排列相邻的进气支路导入分配后的另一路进气，进而可通过进气支路的可调节组合，来达成对气体分区及室内气体分布影响区域的可调节组合，使得室内不同气体分布影响区域的分界点不再固化，可方便用户进行自定义，最终实现对室内气体分布进行灵活把控的目的，拓展了适用范围，以及大大增加了等离子刻蚀设备在均匀性和一致性方面的调节能力，可提升刻蚀工艺的产品质量。

本发明授权一种进气结构及等离子刻蚀设备在权利要求书中公布了：1.一种进气结构，其特征在于，包括气体分配器1和并排的至少三条进气支路2，其中，所述气体分配器1的输入端作为总进气口；各条所述进气支路2的第一端分别一一对应地连通一个独立的气体分区3，并有一条所述进气支路2的第二端连通所述气体分配器1的第一输出端，以及有另一条所述进气支路2的第二端连通所述气体分配器1的第二输出端，多个所述气体分区3分别用于一一对应地连通在刻蚀反应室内腔中的不同气体分布影响区域；针对排列相邻的两条所述进气支路2，其中一条所述进气支路2的第二端连通第一阀门401的一端，另一条所述进气支路2的第二端连通所述第一阀门401的另一端；针对排列非相邻的两条所述进气支路2，其中一条所述进气支路2的第二端连通第二阀门402的一端以及通过第三阀门403连通对应的所述第一阀门401，另一条所述进气支路2的第二端连通所述第二阀门402的另一端以及通过第四阀门404连通对应的所述第一阀门401；所述进气支路2包括有气路并联的一条进气主路221和至少一条进气分路222，其中，所述进气主路221和各条所述进气分路222中分别布置有限流垫圈201，所述进气分路222中还布置有第五阀门405。

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